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侯德胜

作品数：62 被引量：141H指数：6
供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
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合作作者

领域

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主题

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机构

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资助

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传媒

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  • 7个应用光学
  • 6个半导体技术

地区

  • 33个四川省
  • 2个陕西省
  • 1个北京市
  • 1个浙江省
  • 1个重庆市
共 38 条 记 录，以下是 1-10
冯伯儒
供职机构：中国科学院光电技术研究所
研究主题：光刻 相移掩模 光刻系统 干涉光刻 掩模
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张锦
供职机构：西安工业大学光电工程学院
研究主题：光刻系统 干涉光刻 光刻 光刻技术 激光干涉
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杜春雷
供职机构：中国科学院重庆绿色智能技术研究院
研究主题：石墨烯 微透镜阵列 微透镜列阵 微光学元件 掩模
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵泽宇
供职机构：中国科学院光电技术研究所
研究主题：超分辨 光刻 表面等离子体 掩模 衍射
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
周崇喜
供职机构：中国科学院光电技术研究所
研究主题：光束整形 半导体激光器 微透镜阵列 透镜 光纤耦合
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈芬
供职机构：宁波大学信息科学与工程学院
研究主题：立体视频 视点 图像 立体图像 结构相似度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
孙方
供职机构：中国科学院光电技术研究所
研究主题：衰减相移掩模 相移掩模 光致抗蚀剂 光刻分辨率 KRF准分子激光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王永茹
供职机构：中国科学院光电技术研究所
研究主题：微透镜列阵 红外探测器 光刻工艺 浮雕 微光学元件
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘强
供职机构：中国科学院光电技术研究所
研究主题：微透镜阵列 光刻 防伪标识 光刻掩模 微透镜
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
潘丽
供职机构：中国科学院光电技术研究所
研究主题：掩模 湿法腐蚀 微透镜列阵 微透镜阵列 干法刻蚀
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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