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付绍军

作品数：197 被引量：364H指数：9
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徐向东
供职机构：中国科学技术大学
研究主题：离子束刻蚀 光栅 软X射线 衍射光栅 全息光刻
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
洪义麟
供职机构：中国科学技术大学
研究主题：离子束刻蚀 光栅 全息光刻 衍射光栅 软X射线
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘正坤
供职机构：中国科学技术大学
研究主题：光栅 软X射线 离子束刻蚀 衍射效率 全息
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘颖
供职机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
研究主题：光栅 离子束刻蚀 软X射线 衍射光栅 全息光刻
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
邱克强
供职机构：沈阳工业大学材料科学与工程学院
研究主题：非晶合金 力学性能 光栅 合金 离子束刻蚀
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈火耀
供职机构：中国科学技术大学
研究主题：光栅 软X射线 近场 全息 线密度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
霍同林
供职机构：中国科学技术大学核科学技术学院国家同步辐射实验室
研究主题：多层膜 真空紫外 软X射线 光束线 离子束刻蚀
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陶晓明
供职机构：中国科学技术大学
研究主题：离子束刻蚀 软X射线 光刻掩模 全息光刻 光刻胶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
周洪军
供职机构：中国科学技术大学
研究主题：多层膜 真空紫外 光束线 软X射线 离子束刻蚀
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张新夷
供职机构：复旦大学物理教学实验中心
研究主题：GAAS 砷化镓 软X射线 XAFS 光电子能谱
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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