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张伟才

作品数：26 被引量：44H指数：4
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：电子电信一般工业技术化学工程金属学及工艺更多>>

合作作者

领域

  • 26个电子电信
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主题

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  • 17个机械抛光
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机构

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传媒

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地区

  • 22个天津市
  • 3个北京市
  • 1个河北省
共 26 条 记 录，以下是 1-10
杨洪星
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：锗 单晶片 抛光片 晶片 表面粗糙度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨静
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：化学腐蚀 MEMS 研磨 测厚 硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
韩焕鹏
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：硅单晶 锗 单晶炉 晶片 单晶片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵权
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：抛光片 锗 单晶片 表面粗糙度 清洗技术
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王雄龙
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：研磨 粗糙度 MEMS 锗 厚度变化
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
宋晶
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：一致性 表面粗糙度 光散射 硅抛光片 IPA
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
何远东
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 翘曲度 表面粗糙度 单晶 清洗液
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈亚楠
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 抛光 清洗技术 硅抛光片 抛光垫
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘春香
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 单晶片 粗糙度 超薄 清洗技术
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
康洪亮
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：倒角 硅片 砂轮 APCVD 转速
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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