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田原

作品数：13 被引量：11H指数：3
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
相关领域：电子电信一般工业技术电气工程机械工程更多>>

合作作者

领域

  • 20个电子电信
  • 10个一般工业技术
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  • 4个化学工程
  • 4个金属学及工艺
  • 4个机械工程
  • 2个理学
  • 1个经济管理
  • 1个冶金工程
  • 1个自动化与计算...
  • 1个建筑科学
  • 1个文化科学

主题

  • 19个单晶
  • 16个晶片
  • 16个锗
  • 16个粗糙度
  • 15个抛光
  • 15个抛光片
  • 15个硅单晶
  • 14个单晶片
  • 14个硅片
  • 13个化学机械抛光
  • 13个机械抛光
  • 12个面粗糙度
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  • 10个硅单晶片
  • 9个损伤层
  • 9个清洗技术
  • 7个翘曲度
  • 7个清洗液
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  • 5个倒角

机构

  • 21个中国电子科技...
  • 3个中国电子科技...
  • 1个天津大学
  • 1个中国电子科技...

资助

  • 3个国家科技部专...
  • 2个国家自然科学...
  • 1个国家高技术研...
  • 1个天津市自然科...
  • 1个国家部委资助...

传媒

  • 20个电子工业专用...
  • 13个半导体技术
  • 12个电子工艺技术
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  • 7个材料导报
  • 7个中国电子科学...
  • 6个天津科技
  • 5个节能技术
  • 4个压电与声光
  • 2个电源技术
  • 2个人工晶体学报
  • 2个中国新技术新...
  • 2个中国科技期刊...
  • 1个功能材料与器...
  • 1个光电子技术
  • 1个中国科技博览
  • 1个科技视界
  • 1个城市建设理论...
  • 1个科学与信息化

地区

  • 19个天津市
  • 2个北京市
共 21 条 记 录，以下是 1-10
王云彪
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：抛光片 锗 表面粗糙度 超薄 磷化铟
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
耿莉
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 抛光片 超薄 表面粗糙度 单晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
范红娜
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：清洗技术 抛光片 粗糙度 锗 研磨
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈亚楠
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 抛光 清洗技术 硅抛光片 抛光垫
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨静
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：化学腐蚀 MEMS 研磨 测厚 硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
郭亚坤
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 抛光片 超薄 稳定性 平坦度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张伟才
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 抛光片 化学机械抛光 机械强度 IPA
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
何远东
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 翘曲度 表面粗糙度 单晶 清洗液
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李晶
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硅片 厚度偏差 酸腐蚀 正交实验 影响因素
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
康洪亮
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：倒角 硅片 砂轮 APCVD 转速
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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