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李亚光

作品数：2 被引量：10H指数：2
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

领域

  • 6个电子电信
  • 3个金属学及工艺
  • 3个理学
  • 1个冶金工程
  • 1个机械工程
  • 1个电气工程

主题

  • 5个单晶
  • 4个染色
  • 4个染色液
  • 4个硅片
  • 4个AL
  • 4个P
  • 3个淀积
  • 3个淀积速率
  • 3个氧化硅薄膜
  • 3个载流子
  • 3个载流子寿命
  • 3个锗单晶
  • 3个少数载流子
  • 3个少数载流子寿...
  • 3个少子寿命
  • 3个砷化镓
  • 3个砷化镓单晶
  • 2个单晶片
  • 2个抛光
  • 2个抛光片

机构

  • 6个中国电子科技...
  • 1个中电集团
  • 1个中国电子科技...
  • 1个信息产业部

资助

  • 1个国防基础科研...
  • 1个国家高技术研...
  • 1个国家部委资助...
  • 1个国家科技部专...

传媒

  • 6个电子工业专用...
  • 5个半导体技术
  • 2个天津科技
  • 2个电子工艺技术
  • 2个第十四届全国...
  • 1个合肥工业大学...
  • 1个工业计量
  • 1个电子元件与材...
  • 1个微纳电子技术
  • 1个第十三届全国...

地区

  • 5个天津市
  • 1个北京市
共 6 条 记 录，以下是 1-6
佟丽英
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：单晶片 抛光片 电阻率 硅单晶 少子寿命
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王俭峰
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：LPCVD TEOS 二氧化硅薄膜 均匀性 淀积速率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵权
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：抛光片 锗 单晶片 表面粗糙度 清洗技术
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李秀强
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：LPCVD TEOS 二氧化硅薄膜 均匀性 淀积速率
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
史继祥
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：少子寿命 电阻率 硼 晶向 Γ辐照
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王聪
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硼 扩散 AL 染色液 P
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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