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孙有民

作品数:40 被引量:4H指数:1
供职机构:西安微电子技术研究所更多>>
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地区

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15 条 记 录,以下是 1-10
赵杰
供职机构:西安微电子技术研究所
研究主题:总剂量辐射 发射区 集电区 晶体管结构 电压
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
薛智民
供职机构:西安微电子技术研究所
研究主题:抗辐射 总剂量辐射 晶体管结构 掺杂 击穿电压
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王清波
供职机构:西安微电子技术研究所
研究主题:电压 发射区 集电区 晶体管结构 总剂量辐射
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈晓宇
供职机构:西安微电子技术研究所
研究主题:场区 硅栅 HTO 抗辐射 SUB
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘存生
供职机构:西安微电子技术研究所
研究主题:氧 沟槽 抗辐射 场效应晶体管 抗辐射加固
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
薛东风
供职机构:西安微电子技术研究所
研究主题:总剂量辐射 晶体管结构 掺杂 抗辐射 PNP晶体管
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王小荷
供职机构:西安微电子技术研究所
研究主题:氧 抗辐射加固 抗辐射 深源 MOS场效应晶体管
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杜欣荣
供职机构:西安微电子技术研究所
研究主题:晶体管结构 总剂量辐射 掺杂 抗辐射 LDMOS
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈宝忠
供职机构:西安微电子技术研究所
研究主题:平带电压 多晶 掺杂 半导体集成电路 抗辐射加固
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵桂茹
供职机构:西安微电子技术研究所
研究主题:HTO 抗辐射 CMOS 氧 SUB
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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