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杨静

作品数：12 被引量：11H指数：2
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
相关领域：电子电信一般工业技术更多>>

合作作者

领域

  • 10个电子电信
  • 8个一般工业技术
  • 4个金属学及工艺
  • 4个电气工程
  • 3个化学工程
  • 3个机械工程
  • 3个理学
  • 2个自动化与计算...
  • 1个冶金工程
  • 1个文化科学

主题

  • 10个单晶
  • 10个抛光片
  • 10个晶片
  • 10个锗
  • 10个粗糙度
  • 9个单晶片
  • 9个厚度变化
  • 8个面粗糙度
  • 8个硅单晶
  • 8个表面粗糙度
  • 7个电池
  • 7个抛光
  • 7个键合
  • 6个损伤层
  • 6个清洗技术
  • 5个英寸
  • 5个锗单晶
  • 5个硅单晶片
  • 4个单晶硅
  • 4个单晶生长

机构

  • 10个中国电子科技...
  • 3个中国电子科技...
  • 1个河北工业大学
  • 1个天津大学
  • 1个中国电子科技...

资助

  • 3个国家自然科学...
  • 2个国家科技部专...
  • 1个国家高技术研...
  • 1个天津市自然科...
  • 1个国家部委资助...
  • 1个河北省自然科...

传媒

  • 10个电子工业专用...
  • 9个半导体技术
  • 7个微纳电子技术
  • 6个电子工艺技术
  • 6个材料导报
  • 5个节能技术
  • 5个中国电子科学...
  • 4个天津科技
  • 3个人工晶体学报
  • 3个压电与声光
  • 2个电源技术
  • 1个Journa...
  • 1个传感技术学报
  • 1个功能材料与器...
  • 1个光电子技术
  • 1个中国新技术新...
  • 1个中国科技期刊...
  • 1个第九届中国太...
  • 1个第十四届全国...
  • 1个第十五届全国...

地区

  • 7个天津市
  • 3个北京市
共 10 条 记 录，以下是 1-10
张伟才
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 抛光片 化学机械抛光 机械强度 IPA
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨洪星
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：锗 单晶片 抛光片 晶片 表面粗糙度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王雄龙
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：研磨 粗糙度 MEMS 锗 厚度变化
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
韩焕鹏
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：硅单晶 锗 单晶炉 晶片 单晶片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈晨
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 抛光片 锗单晶 英寸 硅-硅直接键合
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
范红娜
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：清洗技术 抛光片 粗糙度 锗 研磨
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
田原
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 粗糙度 抛光片 化学机械抛光 硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王云彪
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：抛光片 锗 表面粗糙度 超薄 磷化铟
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
索开南
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：区熔 少子寿命 硅 区熔硅单晶 SI单晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
何远东
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 翘曲度 表面粗糙度 单晶 清洗液
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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