刘枫
- 作品数：4 被引量：13H指数：2
- 供职机构：同济大学波耳固体物理研究所更多>>
- 发文基金：国家自然科学基金国家高技术研究发展计划上海市教育委员会重点学科基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术理学化学工程更多>>
- 低介电常数多孔二氧化硅薄膜的制备与研究被引量：8
- 2005年
- 本文报道了一种新型纳米多孔低介电常数薄膜的制备方法。以十六烷基三甲基溴化铵 (CTAB)为模板剂 ,正硅酸乙酯为硅源 ,盐酸为催化剂 ,采用溶胶 凝胶技术 ,通过提拉法制备了二氧化硅透明介孔薄膜。用红外光谱、小角XRD、原子力显微镜对样品进行了表征 ,并采用椭偏仪和阻抗分析仪测量薄膜的折射率和介电常数。通过调节表面活性剂浓度和老化时间等实验条件制备出了K <2 .5、机械强度好的低介电常数薄膜。
- 吴兆丰吴广明姚兰芳沈军刘枫
- 关键词：溶胶-凝胶技术介电常数
- 疏水型介孔氧化硅薄膜的制备与研究被引量：2
- 2005年
- 报道了一种新型疏水型介孔氧化硅薄膜的制备方法。用红外光谱、小角 XRD、原子力显微镜对样品进行了表征,并采用椭偏仪和阻抗分析仪测量薄膜的折射率和介电常数。该薄膜具有很低的介电常数和较好的机械强度,是一种可用于微电子工业、极富应用前景的低介电常数材料。
- 吴兆丰吴广明姚兰芳刘枫
- 关键词：介孔氧化硅疏水型低介电常数硅薄膜微电子工业
- 聚对二甲苯/SiO_2复合薄膜的制备及光学性能研究被引量：4
- 2005年
- 聚对二甲苯是一种可应用于光学器件和晶体保护的新型高分子材料。采用真空化学气相沉积法制备聚对二甲苯薄膜,并通过提拉镀膜法在其表面镀制一层SiO2增透膜,可提高薄膜的透射率至90%以上。用FT-IR、紫外-近红外分光光度计和XPS对聚对二甲苯/SiO2复合薄膜结构和光学性能进行了表征和测试,并初步研究了薄膜受紫外光辐照而产生光氧化现象的机理。
- 刘枫沈军秦仁喜吴广明周斌肖轶群吴兆丰
- 关键词：聚对二甲苯光氧化
- 聚对二甲苯/SiO_2薄膜应用于KDP晶体增透保护膜的制备研究
- 2005年
- 报道了采用真空化学气相沉积法制备的聚对二甲苯薄膜和采用溶胶-凝胶技术制备的二氧化硅增透膜,通过提拉镀膜法在聚对二甲苯薄膜表面镀制 SiO_2增透膜得到的双层膜可应用于 KDP 晶体的增透保护膜。用 FT-IR、紫外-近红外分光光度计对聚对二甲苯/SiO_2薄膜的结构和光学性能进行了表征和测试。双层膜的透射率达到92%以上,激光损伤阈值为8J/cm^2。镀有保护膜的 KDP 晶体在相对湿度稳定的环境下放置半年多后透射率基本保持不变。
- 刘枫沈军秦仁喜吴广明肖轶群吴兆丰
- 关键词：KDP晶体双层膜SIO2薄膜化学气相沉积法溶胶-凝胶技术
