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吴兆丰

作品数:8 被引量:23H指数:3
供职机构:同济大学波耳固体物理研究所更多>>
发文基金:国家自然科学基金国家高技术研究发展计划上海市教育委员会重点学科基金更多>>
相关领域:理学一般工业技术化学工程更多>>

文献类型

  • 7篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 6篇理学
  • 4篇一般工业技术
  • 1篇化学工程

主题

  • 5篇氧化硅
  • 4篇溶胶
  • 3篇溶胶-凝胶技...
  • 3篇介电
  • 3篇介电常数
  • 3篇介孔
  • 3篇活性剂
  • 3篇光学
  • 3篇二氧化硅
  • 3篇表面活性
  • 3篇表面活性剂
  • 2篇低介电常数
  • 2篇多孔
  • 2篇多孔二氧化硅
  • 2篇氧化硅薄膜
  • 2篇介孔氧化硅
  • 2篇介孔氧化硅薄...
  • 2篇聚对二甲苯
  • 2篇光学薄膜
  • 1篇电子工业

机构

  • 8篇同济大学
  • 2篇盐城工学院
  • 1篇上海理工大学

作者

  • 8篇吴兆丰
  • 8篇吴广明
  • 6篇姚兰芳
  • 6篇沈军
  • 4篇刘枫
  • 3篇王珏
  • 2篇肖轶群
  • 2篇汪国庆
  • 2篇秦仁喜
  • 1篇周斌
  • 1篇杜梅芳

传媒

  • 2篇材料导报
  • 1篇功能材料
  • 1篇功能材料与器...
  • 1篇光学仪器
  • 1篇盐城工学院学...
  • 1篇材料科学与工...
  • 1篇2004年光...

年份

  • 4篇2005
  • 4篇2004
8 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
表面活性剂浓度对介孔氧化硅薄膜结构和性能的影响研究被引量:2
2004年
报道了一种新型纳米多孔氧化硅薄膜的制备方法 ,并详细探讨了表面活性剂浓度对介孔氧化硅薄膜结构和性能的影响。以十六烷基三甲基溴化铵 (CTAB)为模板剂 ,正硅酸乙酯为硅源 ,盐酸为催化剂 ,采用溶胶 -凝胶技术 ,通过提拉法制备了二氧化硅透明介孔薄膜。用红外光谱、小角XRD、原子力显微镜对样品进行了表征 ,并采用椭偏仪和阻抗分析仪测量薄膜的折射率和介电常数。该薄膜具有很低的介电常数和较好的机械强度 。
吴兆丰吴广明姚兰芳
关键词:溶胶-凝胶技术介电常数
蒸发诱导自组装法制备多孔二氧化硅光学薄膜被引量:6
2004年
报道采用溶胶—凝胶技术、蒸发诱导自组装法,通过酸/酸二步法控制实验条件,实验中采用表面活性剂十六烷基三甲基溴化氨(CTAB)为模板剂,正硅酸乙酯为硅源,以及二次去离子水,盐酸为催化剂等原料制备前驱体溶胶。加入不同量的1,3,5-三甲基苯(TMB)辅助剂来调整膜的孔径。简单提拉迅速蒸发溶剂制备多孔二氧化硅光学薄膜,利用红外光谱对样品进行结构分析,采用UV-VIS-NIR分光光度计测量了薄膜的透过光谱,原子力显微镜(AFM)观察发现多孔薄膜的表面形貌具有明显的多孔结构、表面光滑、均匀;结果表明所制备的薄膜有好的光学性能、机械性能。
姚兰芳沈军汪国庆吴广明吴兆丰王珏
关键词:多孔二氧化硅光学薄膜表面活性剂溶胶-凝胶正硅酸乙酯
低介电常数多孔二氧化硅薄膜的制备与研究被引量:8
2005年
本文报道了一种新型纳米多孔低介电常数薄膜的制备方法。以十六烷基三甲基溴化铵 (CTAB)为模板剂 ,正硅酸乙酯为硅源 ,盐酸为催化剂 ,采用溶胶 凝胶技术 ,通过提拉法制备了二氧化硅透明介孔薄膜。用红外光谱、小角XRD、原子力显微镜对样品进行了表征 ,并采用椭偏仪和阻抗分析仪测量薄膜的折射率和介电常数。通过调节表面活性剂浓度和老化时间等实验条件制备出了K <2 .5、机械强度好的低介电常数薄膜。
吴兆丰吴广明姚兰芳沈军刘枫
关键词:溶胶-凝胶技术介电常数
蒸发诱导自组装法制备多孔二氧化硅光学薄膜
报道采用溶胶—凝胶技术、蒸发诱导自组装法,通过酸/酸二步法控制实验条件,实验中采用表面活性剂十六烷基三甲基溴化氨(CTAB)为模板剂,正硅酸乙酯为硅源,以及二次去离子水,盐酸为催化剂等原料制备前驱体溶胶。加入不同量的1,...
姚兰芳沈军汪国庆吴广明吴兆丰王珏
关键词:二氧化硅表面活性剂
文献传递
疏水型介孔氧化硅薄膜的制备与研究被引量:2
2005年
报道了一种新型疏水型介孔氧化硅薄膜的制备方法。用红外光谱、小角 XRD、原子力显微镜对样品进行了表征,并采用椭偏仪和阻抗分析仪测量薄膜的折射率和介电常数。该薄膜具有很低的介电常数和较好的机械强度,是一种可用于微电子工业、极富应用前景的低介电常数材料。
吴兆丰吴广明姚兰芳刘枫
关键词:介孔氧化硅疏水型低介电常数硅薄膜微电子工业
聚对二甲苯/SiO_2复合薄膜的制备及光学性能研究被引量:4
2005年
聚对二甲苯是一种可应用于光学器件和晶体保护的新型高分子材料。采用真空化学气相沉积法制备聚对二甲苯薄膜,并通过提拉镀膜法在其表面镀制一层SiO2增透膜,可提高薄膜的透射率至90%以上。用FT-IR、紫外-近红外分光光度计和XPS对聚对二甲苯/SiO2复合薄膜结构和光学性能进行了表征和测试,并初步研究了薄膜受紫外光辐照而产生光氧化现象的机理。
刘枫沈军秦仁喜吴广明周斌肖轶群吴兆丰
关键词:聚对二甲苯光氧化
聚对二甲苯/SiO_2薄膜应用于KDP晶体增透保护膜的制备研究
2005年
报道了采用真空化学气相沉积法制备的聚对二甲苯薄膜和采用溶胶-凝胶技术制备的二氧化硅增透膜,通过提拉镀膜法在聚对二甲苯薄膜表面镀制 SiO_2增透膜得到的双层膜可应用于 KDP 晶体的增透保护膜。用 FT-IR、紫外-近红外分光光度计对聚对二甲苯/SiO_2薄膜的结构和光学性能进行了表征和测试。双层膜的透射率达到92%以上,激光损伤阈值为8J/cm^2。镀有保护膜的 KDP 晶体在相对湿度稳定的环境下放置半年多后透射率基本保持不变。
刘枫沈军秦仁喜吴广明肖轶群吴兆丰
关键词:KDP晶体双层膜SIO2薄膜化学气相沉积法溶胶-凝胶技术
表面活性剂浓度对纳米介孔SiO2薄膜结构的影响被引量:2
2004年
利用溶胶-凝胶技术,在酸性条件下,采用十六烷基三甲基溴化氨(CTAB)为表面活性剂,正硅酸乙酯为硅源,以及二次去离子水,盐酸为催化剂等原料制备前驱体溶胶.利用表面活性剂与硅源水解后形成的聚集体相互作用,在溶液中形成分子自组装体,通过简单提拉迅速蒸发溶剂等方法制备二氧化硅-表面活性剂纳米介孔薄膜.分析了表面活性剂浓度对薄膜相结构的影响,发现表面活性剂浓度的变化,对薄膜的微结构和性能都有影响,通过调节表面活性剂的浓度可以对该纳米薄膜的微观结构和性能等进行控制,对样品进行了红外光谱,X射线衍射结构分析,原子力显微镜观察表面形貌.
姚兰芳杜梅芳吴兆丰吴广明沈军王珏
关键词:介孔薄膜二氧化硅表面活性剂
共1页<1>
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