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李传志

作品数:4 被引量:5H指数:1
供职机构:西安工业大学光电工程学院更多>>
相关领域:理学一般工业技术核科学技术更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇理学
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇核科学技术

主题

  • 3篇类金刚石
  • 3篇非平衡磁控溅...
  • 3篇TI
  • 3篇磁控
  • 3篇磁控溅射
  • 2篇金刚石薄膜
  • 2篇类金刚石薄膜
  • 2篇靶制备
  • 1篇正交
  • 1篇正交实验
  • 1篇椭偏法
  • 1篇椭偏光谱
  • 1篇膜结构
  • 1篇金刚石膜
  • 1篇类金刚石膜
  • 1篇光谱
  • 1篇光学
  • 1篇光学常数
  • 1篇DLC
  • 1篇DLC薄膜

机构

  • 4篇西安工业大学
  • 1篇西北工业大学

作者

  • 4篇李传志
  • 4篇徐均琪
  • 3篇严一心
  • 2篇刘衡平
  • 1篇樊慧庆

传媒

  • 2篇真空
  • 1篇材料导报(纳...

年份

  • 1篇2009
  • 2篇2008
  • 1篇2007
4 条 记 录,以下是 1-4
排序方式:
基于复合靶制备Ti-DLC薄膜的研究
2008年
利用非平衡磁控溅射技术溅射复合靶制备了一系列掺杂金属元素钛的类金刚石膜,并对薄膜的机械性能、沉积速率、电学性能及化学性能进行了测试,主要分析了影响机械性能、沉积速率的主要参数并确定了最佳工艺参数,同时阐述了其电学性能及化学性能结果。
李传志徐均琪严一心
关键词:非平衡磁控溅射正交实验
钛掺杂类金刚石薄膜的椭偏光谱研究
利用非平衡磁控溅射法在硅片上制备了钛金属掺杂类金刚石(Ti-DLC)薄膜,研究发现,薄膜材料的性质与薄膜制备的参数有很大的关联。本文采用了椭偏法用一系列模型拟合了 Ti-DLC 薄膜的厚度,并测量了其光学常数。实验结果表...
李传志严一心徐均琪
关键词:类金刚石薄膜掺杂椭偏法光学常数
文献传递
基于复合靶制备Ti-DLC膜的结构和性能
2008年
利用非平衡磁控溅射技术,以Ti-C复合靶为溅射靶材,在Si基底上制备了钛掺杂的类金刚石(Ti-DLC)薄膜,并对薄膜的表面形貌、电阻率、硬度、摩擦系数、附着力等性能进行了研究。借助微观结构测试结果,综合分析了薄膜在不同工艺参数下的宏观性能变化。实验表明:随着Ti掺杂含量从4at.%到35at.%,Ti-DLC膜电阻率下降了3个数量级;同时,薄膜的本征硬度从4771kgf/mm2降低到3037kgf/mm2,而Ti含量继续增加,硬度值反而会增加;XRD衍射图样表明薄膜的基质呈非晶特征,膜层中有TiC晶相生成;掺杂Ti元素能改善DLC薄膜的附着性能,Ti含量的增加有助于附着力的提升。
徐均琪刘衡平李传志樊慧庆
关键词:类金刚石薄膜非平衡磁控溅射
退火对无氢钛掺杂类金刚石(Ti-DLC)膜结构及性能的影响被引量:5
2009年
利用非平衡磁控溅射复合靶技术制备了一系列掺钛的无氢类金刚石(Ti-DLC)薄膜,并对薄膜的热稳定性能、机械性能、应力分布以及表面形貌进行了研究。实验结果表明:退火处理对Ti-DLC膜的性能具有重要影响。随着热处理温度的升高,成膜晶粒逐渐细化,电阻率上升但至一定值后趋于稳定。退火温度的升高,会促使薄膜应力逐渐减小,硬度变低,但其耐火温度可以达到600℃以上而不发生石墨化,这一结果为DLC膜在高温环境下的应用提供了一定思路。
徐均琪李传志严一心刘衡平
关键词:类金刚石膜非平衡磁控溅射
共1页<1>
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