刘衡平
- 作品数：3 被引量：10H指数：2
- 供职机构：西安工业大学光电工程学院更多>>
- 发文基金：西安市科技创新支撑计划基金陕西省科学技术研究发展计划项目更多>>
- 相关领域：理学一般工业技术金属学及工艺更多>>
- 基于复合靶制备Ti-DLC膜的结构和性能
- 2008年
- 利用非平衡磁控溅射技术,以Ti-C复合靶为溅射靶材,在Si基底上制备了钛掺杂的类金刚石(Ti-DLC)薄膜,并对薄膜的表面形貌、电阻率、硬度、摩擦系数、附着力等性能进行了研究。借助微观结构测试结果,综合分析了薄膜在不同工艺参数下的宏观性能变化。实验表明:随着Ti掺杂含量从4at.%到35at.%,Ti-DLC膜电阻率下降了3个数量级;同时,薄膜的本征硬度从4771kgf/mm2降低到3037kgf/mm2,而Ti含量继续增加,硬度值反而会增加;XRD衍射图样表明薄膜的基质呈非晶特征,膜层中有TiC晶相生成;掺杂Ti元素能改善DLC薄膜的附着性能,Ti含量的增加有助于附着力的提升。
- 徐均琪刘衡平李传志樊慧庆
- 关键词：类金刚石薄膜非平衡磁控溅射
- 靶电流对非平衡磁控溅射制备无氢碳膜结构与性能的影响被引量：5
- 2009年
- 利用非平衡磁控溅射(UBMS)技术在硅基片上制备了无氢碳膜,并采用Raman光谱、X射线衍射、傅立叶变换光谱等手段对不同靶电流下沉积的薄膜的微观结构、沉积速率、粗糙度、表面接触角及红外透过率进行了研究。试验结果表明:随着靶电流的增大,薄膜的沉积速率增大,薄膜中sp3键含量增加,薄膜表面接触角增大,红外透过率增大;而薄膜的粗糙度随靶电流增加而减小。靶电流是影响非平衡磁控溅射制备无氢碳膜结构与性能的1个主要因素。
- 刘衡平徐均琪严一心
- 关键词：非平衡磁控溅射类金刚石
- 退火对无氢钛掺杂类金刚石(Ti-DLC)膜结构及性能的影响被引量：5
- 2009年
- 利用非平衡磁控溅射复合靶技术制备了一系列掺钛的无氢类金刚石(Ti-DLC)薄膜,并对薄膜的热稳定性能、机械性能、应力分布以及表面形貌进行了研究。实验结果表明:退火处理对Ti-DLC膜的性能具有重要影响。随着热处理温度的升高,成膜晶粒逐渐细化,电阻率上升但至一定值后趋于稳定。退火温度的升高,会促使薄膜应力逐渐减小,硬度变低,但其耐火温度可以达到600℃以上而不发生石墨化,这一结果为DLC膜在高温环境下的应用提供了一定思路。
- 徐均琪李传志严一心刘衡平
- 关键词：类金刚石膜非平衡磁控溅射
