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许基松

作品数:3 被引量:0H指数:0
供职机构:延边大学更多>>
发文基金:教育部留学回国人员科研启动基金更多>>
相关领域:理学电子电信更多>>

文献类型

  • 1篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇理学
  • 1篇电子电信

主题

  • 3篇场发射
  • 2篇场发射特性
  • 1篇电流模型
  • 1篇电子发射
  • 1篇英文
  • 1篇显示器
  • 1篇显示器件
  • 1篇
  • 1篇材料结构
  • 1篇F
  • 1篇N

机构

  • 3篇延边大学
  • 1篇吉林大学

作者

  • 3篇许基松
  • 2篇顾广瑞
  • 1篇胡新宇
  • 1篇徐立铭
  • 1篇李英爱

传媒

  • 1篇延边大学学报...
  • 1篇中国电子学会...

年份

  • 1篇2011
  • 1篇2010
  • 1篇2009
3 条 记 录,以下是 1-3
排序方式:
表面覆盖钛膜的纳米片状碳膜的场发射特性
本文利用石英管型波等离子体化学气相沉积装置在Si衬底上沉积了纳米片状碳膜,利用电子束蒸镀方法在碳膜表面沉积了一层2nm厚的Ti膜。在高真空系统中测量了纳米片状碳膜覆盖Ti膜前后的场发射特性。纳米片状碳膜具有良好的场发射特...
徐立铭许基松顾广瑞
关键词:显示器件电子发射材料结构
文献传递
碳纳米薄膜的场发射机理研究
许多研究表明碳纳米薄膜的场发射F-N曲线呈非线性,一方面由于F-N理论应该真正适用于具有大量自由电子的平坦的金属阴极,可能不适用于各种各样的碳纳米碳膜,而这些碳膜具有无规则形态的复杂结构,场发射源和电导率也明显不同于纯金...
许基松
关键词:场发射
文献传递
表面覆盖钛薄膜的纳米片状碳膜场发射特性(英文)
2010年
利用石英管型波等离子体化学气相沉积装置在Si衬底上沉积了纳米片状碳膜,然后采用电子束蒸镀方法在碳膜表面沉积了一层2 nm厚的Ti膜,并在高真空系统中测量了覆盖Ti膜前后的纳米片状碳膜的场发射特性.研究表明:覆盖Ti膜的纳米片状碳膜因表面生成碳化钛而改性,使得场发射特性得到改善;表面覆盖Ti膜后,阈值电场由2.6 V/μm下降到2.0 V/μm,当电场增加到9 V/μm时,场发射电流由12.4 mA/cm2增加到20.2 mA/cm2.
胡新宇李英爱许基松顾广瑞
关键词:场发射
共1页<1>
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