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郑昌喜

作品数:7 被引量:8H指数:2
供职机构:中山大学物理科学与工程技术学院光电材料与技术国家重点实验室更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:一般工业技术理学更多>>

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 2篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 5篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 4篇电弧离子镀
  • 4篇离子镀
  • 2篇等离子体显示
  • 2篇等离子体显示...
  • 2篇气体
  • 2篇显示板
  • 2篇脉冲偏压
  • 2篇辉光
  • 2篇辉光放电
  • 2篇反应气体
  • 2篇保护气体
  • 1篇低压大电流
  • 1篇电子发射
  • 1篇性能研究
  • 1篇占空比
  • 1篇真空
  • 1篇真空电弧
  • 1篇真空电弧离子...
  • 1篇射线衍射
  • 1篇脉冲

机构

  • 7篇中山大学
  • 2篇广东工业大学

作者

  • 7篇郑昌喜
  • 6篇何振辉
  • 6篇陈弟虎
  • 5篇朱道云
  • 5篇王明东
  • 4篇闻立时
  • 1篇朱道方

传媒

  • 2篇功能材料
  • 1篇华中科技大学...
  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 1篇2012
  • 1篇2011
  • 1篇2008
  • 4篇2007
7 条 记 录,以下是 1-7
排序方式:
脉冲偏压作用下MgO薄膜表面的荷电效应被引量:1
2012年
采用脉冲偏压电弧离子沉积技术在玻璃基片上制备了透明的、具有择优取向的MgO薄膜。针对绝缘性薄膜表面的荷电效应,比较了脉冲偏压作用下鞘层对离子的加速时间(即鞘层的寿命)与脉冲宽度的大小以及偏压鞘层的初始厚度与离子穿越的距离的大小,讨论了不同占空比下偏压鞘层对离子的加速效应。利用X射线衍射及扫描电子显微镜对样品的观察结果表明,由于荷电效应,脉冲偏压幅值为-150 V,占空比在10%~40%的范围内,占空比的变化并不能改变MgO薄膜的微观结构和表面形貌。
朱道云郑昌喜王明东陈弟虎何振辉闻立时
关键词:脉冲偏压荷电效应
透明MgO薄膜制备方法及所得产品
本发明公开了一种采用电弧离子镀法制备透明MgO薄膜的方法,该方法包括:将衬底置于真空室内,真空室与低压大电流直流电源的正极相连,以纯镁作阴极靶,阴极靶与低压大电流直流电源的负极相连;向真空室通入Ar气,利用高偏压下Ar气...
何振辉闻立时陈弟虎朱道云郑昌喜王明东
文献传递
透明ZnO薄膜制备方法及所得产品
本发明公开了一种采用电弧离子镀法制备透明ZnO薄膜的方法,该方法包括:以Zn作阴极靶;将基片置于与电源正极相连的真空室内;向真空室通入Ar气,并利用高偏压下Ar气的辉光放电对基片表面进行轰击清洗;轰击清洗后,向真空室通入...
何振辉陈弟虎王明东朱道方郑昌喜闻立时
文献传递
阴极电弧离子镀制备MgO薄膜的二次电子发射性能研究
本论文的研究方向是阴极电弧离子镀制备MgO薄膜的二次电子发射性能。目前,AC PDP(交流等离子体显示器)已成为大屏幕平板显示市场的主流产品,但是其功率过高的问题一直得不到很好的解决。由于MgO薄膜具有良好的二次电子发射...
郑昌喜
关键词:二次电子发射
文献传递
沉积气压对电弧离子镀制备ZnO薄膜的结构和性能影响被引量:4
2007年
采用阴极真空电弧离子镀技术在玻璃衬底上制备出了具有择优取向的透明ZnO薄膜。利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜及紫外一可见吸收光谱仪分别对ZnO薄膜的结构、表面形貌及可见光透过率进行了分析。XRD结果表明,所制备的ZnO薄膜具有六角纤锌矿结构的(002)和(101)两种取向,在沉积气压〉1.0Pa时所制备的ZnO薄膜具有(002)择优取向,并且非常稳定。SEM图表明,ZnO晶粒大小较为均匀,晶粒尺寸随着气压升高而变小。在400~1000nm范围内,ZnO薄膜的可见光透过率超过80%,吸收边在370nm附近,所对应的光学带隙约为3.33~3.40eV,并随着沉积气压上升而变大。
王明东朱道云郑昌喜何振辉陈弟虎闻立时
关键词:真空电弧离子镀X射线衍射ZNO薄膜
脉冲偏压占空比对MgO薄膜成分及结构的影响被引量:1
2007年
采用阴极真空电弧离子沉积技术在玻璃衬底上制备出了具有择优取向的透明MgO薄膜.利用卢瑟福背散射谱、X射线衍射仪、扫描电子显微镜及紫外-可见吸收光谱仪分别对MgO薄膜的成分、结构、表面形貌及可见光透过率进行了分析.结果表明:MgO薄膜具有(100)和(110)两种取向,且择优取向趋势不随占空比的变化而变化.随着占空比的增大,脉冲偏压为-150V时制备的MgO薄膜中Mg和O的原子含量之比逐渐增大,占空比为30%时,n(Mg):n(O)接近1:1;SEM图表明,晶粒尺寸随着占空比的增大几乎没有发生明显的改变;在350~900nm范围内,MgO薄膜的可见光透过率可以达到90%以上.
朱道云郑昌喜陈弟虎何振辉
关键词:占空比
沉积气压对电弧离子镀制备MgO薄膜的结构及性能的影响被引量:2
2011年
采用阴极真空电弧离子沉积技术在玻璃及Si衬底上成功地制备了具有择优结晶取向的透明MgO薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)及紫外-可见吸收光谱仪分别对MgO薄膜微观结构、表面形貌及可见光透过率进行了测试与分析。XRD结果表明,所制备的MgO薄膜具有NaCl型立方结构的(100)、(110)和(111)3种结晶取向,在沉积气压为0.7~3.0Pa的范围内,薄膜的择优结晶取向随沉积气压的升高先由(100)转变为(110),最后变为(111)。SEM图表明随着沉积气压的升高,MgO薄膜的晶粒逐渐变小,薄膜结晶质量变差。在380~900nm范围内,沉积气压为0.7Pa下制备的MgO薄膜其可见光透过率高于90%,随着沉积气压的升高,薄膜的可见光透过率有所下降。
朱道云郑昌喜王明东陈弟虎何振辉
关键词:等离子体显示板
共1页<1>
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