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王明东

作品数:8 被引量:7H指数:2
供职机构:中山大学物理科学与工程技术学院光电材料与技术国家重点实验室更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:一般工业技术理学电子电信电气工程更多>>

文献类型

  • 4篇期刊文章
  • 2篇专利
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 3篇一般工业技术
  • 2篇电子电信
  • 2篇理学
  • 1篇电气工程

主题

  • 6篇电弧离子镀
  • 6篇离子镀
  • 4篇ZNO薄膜
  • 2篇氧化锌薄膜
  • 2篇气体
  • 2篇脉冲偏压
  • 2篇辉光
  • 2篇辉光放电
  • 2篇反应气体
  • 2篇保护气体
  • 1篇等离子体显示
  • 1篇等离子体显示...
  • 1篇低压大电流
  • 1篇电池
  • 1篇衍射仪
  • 1篇真空
  • 1篇真空电弧
  • 1篇真空电弧离子...
  • 1篇射线衍射
  • 1篇太阳能

机构

  • 8篇中山大学
  • 2篇广东工业大学
  • 1篇香港中文大学

作者

  • 8篇王明东
  • 6篇何振辉
  • 6篇陈弟虎
  • 5篇郑昌喜
  • 5篇闻立时
  • 5篇朱道云
  • 1篇吴元元
  • 1篇朱道方
  • 1篇郑婷

传媒

  • 2篇功能材料
  • 1篇人工晶体学报
  • 1篇真空科学与技...
  • 1篇第十五届全国...

年份

  • 1篇2012
  • 1篇2011
  • 4篇2008
  • 2篇2007
8 条 记 录,以下是 1-8
排序方式:
透明MgO薄膜制备方法及所得产品
本发明公开了一种采用电弧离子镀法制备透明MgO薄膜的方法,该方法包括:将衬底置于真空室内,真空室与低压大电流直流电源的正极相连,以纯镁作阴极靶,阴极靶与低压大电流直流电源的负极相连;向真空室通入Ar气,利用高偏压下Ar气...
何振辉闻立时陈弟虎朱道云郑昌喜王明东
文献传递
阴极电弧离子镀制备ZnO薄膜
本学位论文采用阴极电弧离子镀技术,成功地制备了具有择优结晶取向的透明ZnO薄膜。利用SEM、XRD、XPS、紫外一可见分光光度计及四探针测量等分别对ZnO薄膜的表面形貌、厚度、微观结构、成分、光学及电学性能等进行了表征和...
王明东
关键词:氧化锌薄膜表面形貌微观结构光电性能
文献传递
沉积气压对电弧离子镀制备ZnO薄膜的结构和性能影响被引量:4
2007年
采用阴极真空电弧离子镀技术在玻璃衬底上制备出了具有择优取向的透明ZnO薄膜。利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜及紫外一可见吸收光谱仪分别对ZnO薄膜的结构、表面形貌及可见光透过率进行了分析。XRD结果表明,所制备的ZnO薄膜具有六角纤锌矿结构的(002)和(101)两种取向,在沉积气压〉1.0Pa时所制备的ZnO薄膜具有(002)择优取向,并且非常稳定。SEM图表明,ZnO晶粒大小较为均匀,晶粒尺寸随着气压升高而变小。在400~1000nm范围内,ZnO薄膜的可见光透过率超过80%,吸收边在370nm附近,所对应的光学带隙约为3.33~3.40eV,并随着沉积气压上升而变大。
王明东朱道云郑昌喜何振辉陈弟虎闻立时
关键词:真空电弧离子镀X射线衍射ZNO薄膜
脉冲偏压作用下MgO薄膜表面的荷电效应被引量:1
2012年
采用脉冲偏压电弧离子沉积技术在玻璃基片上制备了透明的、具有择优取向的MgO薄膜。针对绝缘性薄膜表面的荷电效应,比较了脉冲偏压作用下鞘层对离子的加速时间(即鞘层的寿命)与脉冲宽度的大小以及偏压鞘层的初始厚度与离子穿越的距离的大小,讨论了不同占空比下偏压鞘层对离子的加速效应。利用X射线衍射及扫描电子显微镜对样品的观察结果表明,由于荷电效应,脉冲偏压幅值为-150 V,占空比在10%~40%的范围内,占空比的变化并不能改变MgO薄膜的微观结构和表面形貌。
朱道云郑昌喜王明东陈弟虎何振辉闻立时
关键词:脉冲偏压荷电效应
透明ZnO薄膜制备方法及所得产品
本发明公开了一种采用电弧离子镀法制备透明ZnO薄膜的方法,该方法包括:以Zn作阴极靶;将基片置于与电源正极相连的真空室内;向真空室通入Ar气,并利用高偏压下Ar气的辉光放电对基片表面进行轰击清洗;轰击清洗后,向真空室通入...
何振辉陈弟虎王明东朱道方郑昌喜闻立时
文献传递
电弧离子镀ZnO薄膜及太阳能电池中应用
采用脉冲偏压电弧离子镀技术在玻璃和硅衬底上制备出了具有择优取向的透明ZnO薄膜。利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜及紫外。可见吸收光谱仪分别对ZnO薄膜的结构、表面形貌及可见光透过率进行了分析。XRD结果表明,所制各的Zn...
王明东朱道云吴元元何振辉陈弟虎许建斌
关键词:脉冲偏压X射线衍射仪氧化锌薄膜太阳能电池
文献传递
沉积气压对电弧离子镀制备MgO薄膜的结构及性能的影响被引量:2
2011年
采用阴极真空电弧离子沉积技术在玻璃及Si衬底上成功地制备了具有择优结晶取向的透明MgO薄膜。利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)及紫外-可见吸收光谱仪分别对MgO薄膜微观结构、表面形貌及可见光透过率进行了测试与分析。XRD结果表明,所制备的MgO薄膜具有NaCl型立方结构的(100)、(110)和(111)3种结晶取向,在沉积气压为0.7~3.0Pa的范围内,薄膜的择优结晶取向随沉积气压的升高先由(100)转变为(110),最后变为(111)。SEM图表明随着沉积气压的升高,MgO薄膜的晶粒逐渐变小,薄膜结晶质量变差。在380~900nm范围内,沉积气压为0.7Pa下制备的MgO薄膜其可见光透过率高于90%,随着沉积气压的升高,薄膜的可见光透过率有所下降。
朱道云郑昌喜王明东陈弟虎何振辉
关键词:等离子体显示板
退火对电弧离子镀制备的ZnO薄膜的影响
2008年
采用阴极电弧离子镀在Si、Al2O3以及玻璃衬底上制备出具有择优取向的ZnO薄膜,并对其进行退火处理。利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、光致发光光谱(PL)、紫外-可见光光谱仪对ZnO薄膜的结构、表面形貌和光学性能进行分析。XRD结果表明,所制备的ZnO薄膜具有很好的ZnO(002)择优取向,退火使ZnO(002)衍射峰向高角度方向偏移。SEM结果表明,随着退火温度升高,表面晶粒由隆起的山脉或塔状变为平面状,晶粒002面呈六边状。PL谱结果表明,随着退火温度的升高,紫外发光峰强度逐渐增强,可见光发光峰强度逐渐相对减弱。紫外可见光透过谱结果表明,退火使可见光透过率增高,光学带隙发生红移。
王明东郑婷朱道云何振辉陈弟虎闻立时
关键词:ZNO薄膜退火
共1页<1>
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