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真空紫外～X射线反射膜研究现状被引量：14: 2006年; 真空紫外～X射线反射膜在分子、原子结构、宇宙物理、微纳米器件、生命科学等研究领域有着极其重要的应用。本文总结了迄今为止在A〈200nm内反射膜研究的进展情况，列出了常用单层金属反射膜最佳沉积条件、反射光谱以及各自的特点；对复合膜则根据所应用的波长范围，阐述了膜材选择、膜层设计及薄膜制作过程中所涉及的一些重要问题，分析了复合膜反射率增强的机理。并给出了相应波段所用的膜材、膜对结构及所能达到的最高反射率。; 干蜀毅徐向东洪义麟刘颍付绍军; 关键词：真空紫外 X射线反射镜反射率复合膜

国家同步辐射实验室反射率计误差分析被引量：1: 2008年; 中国科技大学国家同步辐射实验室"光谱辐射标准与计量实验站"上的反射率计主要用于测量各种光学元器件在X射线、真空紫外波段的反射率。为保证测试结果的精确性和可靠性,在大量实验数据的基础上,结合必要的理论推导,对反射率计测试误差来源及影响程度进行了分析,确定影响反射率计测试精度的主要因素包括光源、探测器、样品安装等。总结了光源波动、探测器损坏的几种典型形式,定性、定量地分析了这些因素和样品安装、光斑尺寸对测试精度的影响,针对性地提出了应对办法,把测试误差控制在2%以内,从而有效地保证了测试精度。; 干蜀毅刘正坤徐向东洪义麟刘颍周洪军霍同林付绍军; 关键词：误差分析

Si基片上Au膜真空紫外反射特性研究被引量：4: 2008年; 对Si片上Au膜在真空紫外波段的反射特性进行了系统的研究。采用离子束溅射,选择不同的镀膜参数,在经不同前期清洗方法处理过的Si片上,镀制了各种厚度的Au膜。利用科大国家同步辐射实验室的反射率计,对Au膜在真空紫外较宽波长范围内的反射率进行了连续测量。测试结果表明:Si片上Au膜厚度和辅助离子源的使用方式对Au膜反射率有重大影响,而镀前基片表面清洗工艺等对反射率影响不显著。采用辅助离子沉积或镀前离子清洗,可提高Au膜反射率;但离子清洗和辅助离子沉积同时使用会给反射率带来显著的不利影响。膜厚在30 nm左右,55°入射角时反射率最高,可高达40%。; 干蜀毅徐向东洪义麟刘颍周洪军霍同林付绍军; 关键词：离子束溅射

离子束溅射沉积Ir膜真空紫外反射特性研究: 2009年; 根据吸收材料基底上单层金属膜数学计算模型,对不同基片上各种厚度的Ir膜真空紫外反射率进行了优化计算.采用离子束溅射沉积技术,在石英、K9玻璃和Si基片上沉积了不同厚度的Ir膜,研究了基片、表面厚度、离子束能量及镀后热处理对Ir膜反射率的影响,在波长120nm处获得了近30%正入射反射率.; 干蜀毅刘正坤盛斌徐向东洪义麟刘颍周洪军霍同林付绍军; 关键词：离子束溅射

高反射膜设计方法综述: 现代科技的发展对增反膜提出的要求越来越高,具体表现在两个方面:一是要求在现有基础上进一步提高反射率,拓宽高反膜带宽,二是将获得高反膜的波长向短波方向延伸至真空紫外-x 射线。本文在回顾经典高反膜设计方法的基础上,总结了近...; 干蜀毅徐向东洪义麟刘颍谢永军付绍军; 关键词：膜系设计真空紫外 X射线反射率多层膜; 文献传递

光学表面粗糙状态分形研究被引量：2: 2010年; 将分形法引入光学表面粗糙度评价体系中，以克服常用表面粗糙度评价参数（如Rn、Rq、PSD）随取样点位置、取样长度而变化的弊端。用原子力显微镜（AFM）对样片表面进行测量，计算测量值的配分函数和多重分形谱。计算结果表明：不同样品在同样取样范围内多重分形谱显著不同，同一样品在不同取样范围内配分函数曲线有区别，但多重分形谱却非常相似。对分形计算结果与表面粗糙状态之间的内在联系进行了分析，提出用多重分形谱宽把分形计算结果量化，以客观、唯一地表示被测表面粗糙状态。; 干蜀毅周卿徐向东洪义麟刘颍付绍军; 关键词：计量学表面粗糙度分形多重分形谱自相似

几种高反膜设计新方法被引量：2: 2008年; 现代科技的发展对增反膜提出的要求越来越高，具体表现在两个方面：一是要求在现有基础上进一步提高反射率，拓宽高反膜带宽，二是将高反膜的波长向短波方向延伸至真空紫外-x射线。本文总结了近年来出现的一些思路独特的增反膜设计新方法，包括Needle设计法、Staggered broad-band reflecting muhilayers法、Sub-quarterwave multilayers法、Layered synthetic microstructure／quasi-periodic multilayers法、Layer by layer法、带阻挡层的Layer by layer法及Wide range multilayer设计法。给出了这些设计方法的思路，以真空紫外-X射线反射膜为侧重点。对增反膜设计、制作过程中尚存的一些重大问题也进行了阐述。; 干蜀毅刘正坤徐向东洪义麟刘颍周洪军霍同林付绍军; 关键词：高反膜膜系设计真空紫外 X射线

K9和石英玻璃基片上Au膜真空紫外反射特性研究被引量：10: 2007年; 采用离子束溅射法,分别在经过不同前期清洗方法处理过的K9及石英玻璃光学基片上,选择不同的镀膜参量,镀制了多种厚度的Au膜。对镀制的Au膜在真空紫外波段较宽波长范围内的反射率进行了连续测量。测试结果表明:辅助离子源的使用方式、Au膜厚度对反射镜的反射率有重大影响。基片材料、镀前基片表面清洗工艺等对反射率也有一定影响。采用镀前离子轰击,可显著提高Au膜反射率及膜与基底的粘合力;获得最高反射率时的最佳膜厚与基片材料、镀膜工艺密切相关。对经过离子清洗的石英基片,膜厚在30 nm左右反射率最高;比较而言,石英基片可获得更高的反射率;辅助离子源的使用还显著影响获得最高反射率时对应的最佳膜厚值,且对K9基片的影响更显著。; 干蜀毅徐向东洪义麟刘颍付绍军; 关键词：薄膜光学离子束溅射

K9和石英玻璃基片上Au膜真空紫外反射特性研究: 真空紫外反射镜在分子、原子结构、宇宙物理、微纳米器件、生命科学等研究领域有着极其重要的应用。然而由于缺乏有效、稳定、连续的光源,国内真空紫外反射镜的研究基本处于空白状态。本文以Au作为真空紫外反射镜薄膜材料,对Au膜在真...; 干蜀毅徐向东洪义麟刘颍付绍军; 关键词：反射率金属膜; 文献传递

电子束蒸发沉积Ir膜真空紫外反射特性被引量：3: 2008年; Ir是一种重要的真空紫外反射材料,在太阳物理、宇宙物理、生命科学、大气物理、同步辐射等方面有着十分重要的应用。对电子束蒸发沉积Ir膜在真空紫外波段的反射特性进行了系统的理论和实验研究。根据吸收材料基底上单层金属膜数学计算模型,对不同基片上各种厚度的Ir膜真空紫外反射率进行了优化计算。根据计算和前期实验结果,采用电子束蒸发方法,在石英、K9玻璃基片上沉积了不同厚度的Ir膜,在入射波长120 nm处获得了近30%正入射反射率,对应的Ir膜厚度为12 nm。过厚或过薄均不利于Ir膜反射率的提高。经退火处理后,Ir膜中张应力有所释放但并未消除,同时晶粒平均尺寸显著增大,反射率下降。; 干蜀毅刘正坤盛斌徐向东洪义麟刘颍周洪军霍同林付绍军; 关键词：薄膜光学电子束蒸发

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刘颍

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