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张淑敏

作品数:9 被引量:30H指数:3
供职机构:同济大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金教育部“新世纪优秀人才支持计划”国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:机械工程一般工业技术理学更多>>

文献类型

  • 5篇期刊文章
  • 3篇会议论文
  • 1篇学位论文

领域

  • 7篇机械工程
  • 7篇一般工业技术
  • 5篇理学

主题

  • 9篇多层膜
  • 2篇电镜
  • 2篇衍射仪
  • 2篇摇摆曲线
  • 2篇窄带
  • 2篇射电
  • 2篇透射电镜
  • 2篇溅射
  • 2篇光学
  • 2篇反射率
  • 2篇X射线衍射仪
  • 2篇EUV
  • 2篇超声
  • 2篇超声清洗
  • 2篇磁控
  • 2篇磁控溅射
  • 1篇原子力显微镜
  • 1篇谱线
  • 1篇清洗技术
  • 1篇极紫外

机构

  • 9篇同济大学
  • 3篇中国科技大学
  • 3篇中国科学技术...

作者

  • 9篇张淑敏
  • 8篇张众
  • 8篇王风丽
  • 8篇王占山
  • 6篇朱京涛
  • 6篇霍同林
  • 5篇吴文娟
  • 5篇陈玲燕
  • 4篇王洪昌
  • 3篇周洪军
  • 3篇沈正祥
  • 3篇周洪军
  • 2篇秦树基
  • 1篇王蓓
  • 1篇李存霞
  • 1篇徐垚

传媒

  • 3篇中国光学学会...
  • 2篇光学仪器
  • 1篇光学精密工程
  • 1篇光学学报
  • 1篇真空科学与技...

年份

  • 2篇2007
  • 5篇2006
  • 2篇2005
9 条 记 录,以下是 1-9
排序方式:
窄带Mo/Si多层膜反射镜
本文设计并制备了窄带Mo/Si多层膜反射镜,工作波长为14 nm。利用高反射级次和减小Mo 层厚度两种方法减小Mo/Si多层膜反射镜光谱宽度。对Mo层厚度分别为2 nm和3 nm的Mo/Si多层膜, 设计了反射级次分别从...
吴文娟朱京涛王风丽张众王洪昌张淑敏王占山陈玲燕周洪军霍同林
关键词:窄带EUV反射率
文献传递
清洗技术和平滑层对极紫外多层膜基底粗糙度的影响及表面表征技术研究
多层膜反射镜不仅广泛应用于极紫外太空观察、等离子体诊断和同步辐射应用等领域,而且是下一代极紫外光刻系统中的关键元件,其反射率的高低是多层膜研究水平的重要标志之一。在极紫外波段,由于多层膜表界面粗糙度大小要比波长小很多,同...
张淑敏
关键词:多层膜超声波清洗原子力显微镜
30.4nm波长SiC/Mg多层膜反射镜被引量:10
2007年
波长30.4 nm的He-II谱线是极紫外天文观测中最重要的谱线之一,空间极紫外太阳观测光学系统需要采用多层膜作为反射元件。为此研究了SiC/Mg、B4C/Mg、C/Mg、C/Al、Mo/Si、B4C/Si、SiC/Si、C/Si、Sc/Si等材料组合的多层膜在该波长处的反射性能。基于反射率最大与多层膜带宽最小的设计优化原则,选取了SiC/Mg作为膜系材料。采用直流磁控溅射技术制备了SiC/Mg多层膜,用X射线衍射仪测量了多层膜的周期厚度,用国家同步辐射计量站的反射率计测量了多层膜的反射率,在入射角12°时,实测30.4 nm处的反射率为38.0%。
朱京涛张淑敏王蓓吴文娟李存霞徐垚张众王风丽王占山陈玲燕周洪军霍同林
关键词:薄膜光学极紫外多层膜磁控溅射
W/B_4C、W/C、W/Si多层膜的研究被引量:11
2005年
给出了W/B4C、W/C、W/Si(钨/碳化硼、钨/碳、钨/硅)周期多层膜的制备和测量研究.用超高真空直流磁控溅射方法制备出周期在1.1~7.2 nm范围内的多层膜样品,采用X射线衍射仪(XRD)小角度测量方法检测多层膜的光学性能,并用透射电镜(TEM)对样品的微观结构进行了研究.结果表明:周期大于1.3 nm的多层膜样品的结构质量高,膜层结构清晰,界面粗糙度小;周期为1.15 nm的多层膜的膜层结构不是很明显;所有膜层均为非晶态,没有晶相生成.结果还表明:采用目前的溅射设备和工艺过程能够制备出满足同步辐射荧光光束线上单色器用多层膜.
王风丽王占山张众吴文娟王洪昌张淑敏秦树基陈玲燕
关键词:多层膜X射线衍射仪透射电镜
极紫外多层膜基底表面粗糙度综合表征技术
研究用不同清洗方法对硅基底表面粗糙度的影响,首先使用原子力显微镜(AFM)直接测量硅片表面粗糙度。然后,利用直流磁控溅射方法,在相同制备工艺条件下镀制Mo/Si多层膜,使用X射线衍射仪(XRD)对多层膜二级衍射峰进行摇摆...
张淑敏朱京涛王风丽张众沈正祥王占山周洪军霍同林
关键词:多层膜超声清洗摇摆曲线
文献传递
EUV多层膜基底表面粗糙度综合表征技术
<正>多层膜反射镜是极紫外、软x射线光学中的一类重要的光学元件,近年来,随着纳米技术的进步, 人们在膜系设计、制备工艺上取得了很大的进步,但是对于超光滑基底的研究进展比较缓慢。在多层膜生长过程中,基底表面质量直接影响薄膜...
张淑敏朱京涛王风丽张众沈正祥王占山周洪军霍同林
文献传递
窄带Mo/Si多层膜反射镜被引量:1
2006年
设计并制备了窄带M o/S i多层膜反射镜。利用高反射级次和减小M o层厚度两种方法减小M o/S i多层膜反射镜光谱宽度。对M o层厚度分别为2 nm和3 nm的M o/S i多层膜,设计了反射级次分别从1到6的多层膜系。制备方法采用直流磁控溅射技术,在国家同步辐射光谱与计量站上测试。结果表明,带宽随着反射级次增加而减少,在同一反射级次,M o层厚度为2 nm的多层膜反射光谱带宽较小。
吴文娟朱京涛王风丽张众王洪昌张淑敏王占山陈玲燕周洪军霍同林
关键词:窄带多层膜反射率
极紫外多层膜基底表面粗糙度综合表征技术被引量:5
2006年
研究用不同清洗方法对硅基底表面粗糙度的影响,首先使用原子力显微镜(AFM)直接测量硅片表面粗糙度;然后,利用直流磁控溅射方法,在相同制备工艺条件下镀制M o/S i多层膜,使用X射线衍射仪(XRD)对多层膜二级衍射峰进行摇摆曲线扫描;最后,利用同步辐射测量多层膜的反射率,间接表征基底的粗糙度。结果表明,超声清洗后镀制的多层膜反射率最高,结论与AFM,XRD等表征方法一致。
张淑敏朱京涛王风丽张众沈正祥王占山周洪军霍同林
关键词:多层膜超声清洗摇摆曲线
C/W多层膜的制备及其光学特性被引量:1
2005年
介绍了软X射线波段C/W多层膜的制备和光学性能检测。采用高真空直流磁控溅射方法在超光滑硅基片上制作了C/W多层膜,用X射线衍射(XRD)仪,小角测量方法测试多层膜的光学性能,采用透射电镜(TEM)观测多层膜断层样品的微观结构,并在同步辐射软X射线光束线上,测试了所制备的C/W多层膜样品的反射率,然后对测试结果进行拟合分析。结果表明,所制备的C/W多层膜样品的质量较高,界面清晰,粗糙度小,所有膜层均为无定形态,没有晶相生成,以44.2°入射在5.9 nm处有约6%的反射率。
王风丽王占山王洪昌吴文娟张众张淑敏秦树基陈玲燕
关键词:磁控溅射多层膜X射线衍射仪透射电镜
共1页<1>
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