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文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 2篇理学

主题

  • 2篇导体
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  • 2篇半导体
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  • 1篇溶胶
  • 1篇溶胶-凝胶法
  • 1篇稀磁半导体薄...
  • 1篇溅射
  • 1篇半导体薄膜
  • 1篇XAFS研究
  • 1篇XRD
  • 1篇MN
  • 1篇磁控
  • 1篇磁控溅射
  • 1篇X

机构

  • 2篇中国科学技术...

作者

  • 2篇朱三元
  • 2篇孙治湖
  • 2篇史同飞
  • 2篇韦世强
  • 2篇刘文汉
  • 1篇闫文盛
  • 1篇吴文清
  • 1篇张国斌
  • 1篇潘志云
  • 1篇叶剑
  • 1篇孙玉

传媒

  • 1篇物理学报
  • 1篇中国科学技术...

年份

  • 2篇2007
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
Zn_(1-x)Co_xO稀磁半导体的XAFS研究被引量:1
2007年
利用XAFS技术研究溶胶-凝胶法制备的Zn1-xCoxO稀磁半导体材料结构随Co含量(x)的变化.结果表明在低含量的Co掺杂ZnO(x=0.02,0.05)时Co2+离子完全进入ZnO晶格中,替代了Zn2+离子,并且造成了Co2+离子周围局域结构的膨胀.当Co的含量x增加到0.10或更高时,只有一部分的Co2+离子进入晶格,剩余的Co2+和Co3+析出晶格形成Co3O4相.
史同飞朱三元吴文清张国斌闫文盛孙治湖刘文汉韦世强
关键词:XAFS溶胶-凝胶法
Mn_xGe_(1-x)稀磁半导体薄膜的结构研究被引量:5
2007年
利用X射线衍射(XRD)和X射线吸收精细结构(XAFS)方法研究了磁控共溅射方法制备的MnxGe1-x薄膜样品的结构随掺杂磁性原子Mn含量的变化规律.XRD结果表明,在Mn的含量较低(7.0%)的Mn0.07Ge0.93样品中,只能观察到对应于多晶Ge的XRD衍射峰,而对Mn含量较高(25.0%,36.0%)的Mn0.25Ge0.75和Mn0.36Ge0.64样品则明显出现Ge3Mn5相的衍射峰,且Ge3Mn5的比例随着Mn的含量升高而增加.XAFS结果表明,对于Mn0.07Ge0.93样品,Mn主要以替代位的形式存在,占75%左右的比例;在Mn0.25Ge0.75和Mn0.36Ge0.64的样品中,除了一小部分的Mn原子以替代位的形式存在之外,大部分Mn原子以Ge3Mn5化合物的形式存在.
孙玉孙治湖朱三元史同飞叶剑潘志云刘文汉韦世强
关键词:磁控溅射XRDXAFS
共1页<1>
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