叶舟
- 作品数：1 被引量：0H指数：0
- 供职机构：武汉大学物理科学与技术学院更多>>
- 发文基金：国家基础科学人才培养基金国家自然科学基金更多>>
- 相关领域：理学更多>>
- Mn离子注入Si材料的结构分析及磁学性质
- 2009年
- 采用剂量分别为1×1016(1E16),3×1016(3E16)和5×1016cm-2(5E16)的Mn离子注入方法制备Si基稀磁半导体样品.利用透射电子显微镜(TEM)和交变梯度磁强计(AGM)对不同剂量的样品退火前后的结构和磁学特性的变化进行了表征.实验发现,退火前,只有5E16样品出现球状偏析物,其直径在5 nm左右,但也有个别直径15 nm左右的大团簇.N2环境下800℃退火5 min部分修复了1E16样品注入区域的晶格损伤,并使该剂量样品出现偏析物,直径多在10 nm左右.衍射花样分析表明该偏析物为具有晶面间距0.333,0.191和0.163 nm的微晶,这说明该微晶最有可能是MnSi1.7.退火前,样品饱和磁化强度随注入剂量增大而显著增强,但从3E16到5E16增速放缓,退火使低剂量样品磁性大幅减弱,说明偏析物不利磁性增强.
- 郭立平欧阳中亮彭国良叶舟黎明彭挺潘杨
- 关键词：离子注入
