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苏伟军

作品数：5 被引量：11H指数：2
供职机构：中国科学院光电技术研究所更多>>
发文基金：“八五”国家科技攻关计划更多>>
相关领域：电子电信自动化与计算机技术更多>>

合作作者

文献类型

  • 5篇中文期刊文章

领域

  • 5篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 3篇光刻
  • 2篇调平
  • 2篇亚微米
  • 2篇投影光刻
  • 2篇投影光刻机
  • 2篇微米
  • 2篇光刻机
  • 1篇电子束曝光
  • 1篇电子束曝光机
  • 1篇调焦
  • 1篇掩模
  • 1篇预处理
  • 1篇软X射线
  • 1篇套刻
  • 1篇图象
  • 1篇图象预处理
  • 1篇曝光机
  • 1篇自动控制
  • 1篇自动控制系统
  • 1篇六自由度

机构

  • 5篇中国科学院

作者

  • 5篇苏伟军
  • 2篇胡淞
  • 2篇王继红
  • 1篇李展
  • 1篇刘业异
  • 1篇叶甜春
  • 1篇姚汉民
  • 1篇张津

传媒

  • 4篇光电工程
  • 1篇微细加工技术

年份

  • 1篇2001
  • 1篇1999
  • 3篇1998
共 5 条 记 录，以下是 1-5
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排序方式：
0.8～1μm分步重复投影光刻机六自由度硅片定位系统设计与计算被引量：6
1998年
介绍用于０．８～１μｍ分步重复投影光刻机的六自由度硅片定位系统。讨论了气足、承片台系统及ＳＴＡＭＰ的设计和计算方法，并给出了设计数据与计算结果。本系统在Ｘ、Ｙ１、Ｙ２三个方向达到了±０．１μｍ（３σ）的重复定位精度、±５０ｎｍ的调焦分辨力和５μｍ／全片的调平精度。
胡淞苏伟军
关键词：分步重复光刻机调焦调平光刻
亚微米接触式X射线曝光对准系统被引量：1
2001年
介绍了接触式X射线曝光对准系统的设计原理 ,对其关键部分 (精密调整台、微位移控制、对准光学系统等 )做了详细阐述 ,并进行了系统的精度分析。
王继红苏伟军叶甜春刘业异
关键词：X射线光刻掩模硅片
亚微米电子束曝光机激光工件台控制系统设计
1998年
系统介绍了亚微米电子束曝光机激光工件台控制系统的结构组成以及工件台自校正ＰＩＤ定位控制系统的设计。
苏伟军
关键词：电子束曝光机工件台自动控制系统
软X射线光刻机对准系统中的图象预处理方法
1999年
在图象处理系统中，处理速度是很重要的技术指标。本文介绍了一种采用求和投影法进行的预处理方法，在处理速度方面得到了很大的提高，取得了比较理想的效果．
苏伟军王继红
关键词：图象预处理
0.35μm投影光刻机的逐场调平技术与套刻步进模型被引量：4
1998年
介绍用于 0 .35μm投影光刻机的逐场调平技术 ,讨论其检测和控制原理 ,并作精度分析 ;讨论逐场调平对套刻精度的影响 ,并建立三轴测量逐场调平的套刻步进模型。
胡淞姚汉民张津李展曾晓阳苏伟军
关键词：投影光刻机IC
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