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陆冰睿

作品数:47 被引量:9H指数:2
供职机构:复旦大学更多>>
发文基金:上海市教育委员会重点学科基金高等学校科技创新工程重大项目国家重点基础研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信理学机械工程自动化与计算机技术更多>>

文献类型

  • 43篇专利
  • 2篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 8篇电子电信
  • 2篇机械工程
  • 2篇理学
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 20篇光刻
  • 15篇纳米
  • 13篇电子束光刻
  • 9篇旋涂
  • 7篇电子束曝光
  • 7篇石墨
  • 7篇石墨烯
  • 7篇微电子
  • 7篇纳米压印
  • 7篇刻蚀
  • 7篇光刻胶
  • 6篇绝缘层
  • 6篇绝缘层上硅
  • 6篇光学光刻
  • 6篇反应离子
  • 6篇半导体
  • 6篇掺杂
  • 5篇纳米压印技术
  • 5篇金属
  • 5篇光电

机构

  • 47篇复旦大学
  • 1篇深圳出入境检...

作者

  • 47篇陆冰睿
  • 36篇陈宜方
  • 11篇万景
  • 9篇刘冉
  • 6篇徐晨
  • 6篇陈国平
  • 6篇刘建朋
  • 6篇张思超
  • 5篇屈新萍
  • 4篇张有为
  • 4篇李欣
  • 4篇仇志军
  • 3篇疏珍
  • 3篇谢申奇
  • 3篇李俊洁
  • 2篇邓少任
  • 2篇刘书一
  • 2篇陈韬
  • 2篇谢珊珊
  • 2篇马亚琪

传媒

  • 2篇传感器与微系...
  • 1篇2011上海...

年份

  • 1篇2022
  • 1篇2020
  • 5篇2019
  • 1篇2018
  • 7篇2017
  • 3篇2016
  • 16篇2015
  • 4篇2013
  • 1篇2012
  • 4篇2011
  • 2篇2010
  • 2篇2008
47 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
一种制备蝴蝶翅膀仿生微纳结构的方法
本发明属于微纳加工技术领域,具体为一种制备蝴蝶翅膀仿生微纳结构的方法。本发明首先在硅基底上采用旋涂法依次交替旋涂两种不同灵敏度的光刻胶若干层,然后利用电子束光刻对光刻胶进行曝光,再利用两种显影液对曝光后的样品进行交替显影...
陈宜方张思超邵金海陆冰睿
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一种半导体光电传感器
本发明属于半导体器件技术领域,具体为一种半导体光电传感器。本发明传感器建立在绝缘层上硅的衬底上,器件的源漏为反型掺杂,即一方为p型而另一方为n型掺杂,而沟道为不掺杂或者低掺杂。沟道区域只有一部分为正栅极覆盖,而衬底作为背...
万景邓嘉男邵金海陆冰睿陈宜方
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一种利用热处理减小微电子器件表面粗糙度的仪器
本发明属于微电子器件表面处理技术领域,具体为一种利用热处理减小微电子器件表面粗糙度的仪器。本发明仪器的核心为两部分:高功率的热源和恒温平台。高功率热源将样品表面温度迅速提升,另一侧被恒温平台控制在室温,由于样品衬底位导热...
陈宜方徐晨陆冰睿
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自对准双层X射线波带片的制备方法
本发明属于纳米结构制备技术领域,具体为一种自对准双层X射线波带片的制备方法。其步骤包括:在基片或者隔膜上淀积金属导电种子层,再在基片或者隔膜的正反两面旋涂光刻胶,利用电子束曝光技术进行曝光并显影得到设计的图形;然后利用纳...
陈宜方刘建朋陆冰睿李欣
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一种石墨烯表面高k栅介质的集成方法
本发明属于半导体器件技术领域,具体为一种石墨烯金属氧化物栅介质的集成方法。本发明首先利用金属醇盐水解机理,采用浸渍或旋覆工艺在石墨烯表面生成一层超薄金属氢氧化物薄膜;以该超薄金属氢氧化物薄膜作为成核层,采用常规原子层沉积...
张有为仇志军陆冰睿陈国平刘冉
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采用水基原子层沉积技术在石墨烯表面制备高k栅介质的方法
本发明属于半导体器件制造技术领域,具体为一种采用正丙醇改善的水基原子层沉积技术在石墨烯表面制备高k栅介质的方法。本发明方法包括:提供半导体衬底,所述半导体衬底上有未经功能化处理石墨烯层;利用在反应温度条件下在所述石墨烯层...
张有为仇志军陈国平陆冰睿刘冉
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一种基于激光干涉光刻在材料表面制作微纳结构的方法
本发明属于电子技术领域,具体为一种基于激光干涉光刻在材料表面制作微纳结构的方法。它通过产生激光干涉从而在光刻胶上形成微纳结构,进而通过刻蚀的办法,实现光刻胶上的微纳结构转移到衬底材料表面,形成微纳尺度的光栅、点阵、线阵等...
于航陆冰睿刘冉
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一种利用光子纳米喷射造成聚焦效应的超分辨纳米光刻方法
本发明属于光刻技术领域,具体为一种利用光子纳米喷射造成聚焦效应的超分辨纳米光刻方法。本发明利用光子在介质微球里发生的纳米喷射过程所造成的聚焦效应进行超分辨纳米光刻,其步骤包括:在硅片表面旋涂一层光刻胶,利用电子束光刻,经...
陈宜方徐晨陆冰睿
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纳米结构加工方法研究进展及其应用
陆冰睿
一种复制纳米压印模板的方法
本发明属于纳米压印技术领域,具体为一种复制纳米压印模板的方法。其步骤包括:在衬底上旋涂并前烘双层胶,衬底是硅、二氧化硅或者玻璃等,上层为SU8胶,下层为LOR胶,经过压印或者是压印结合曝光处理,原始模板上的图形转移到SU...
万景屈新萍谢申奇陆冰睿疏珍刘冉陈宜方
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共5页<12345>
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