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张思超

作品数：7 被引量：4H指数：1
供职机构：复旦大学更多>>
发文基金：国家自然科学基金更多>>
相关领域：电子电信理学机械工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 6篇专利
  • 1篇期刊文章

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇机械工程
  • 1篇理学

主题

  • 4篇电子束光刻
  • 4篇光刻
  • 3篇深反应离子刻...
  • 3篇离子刻蚀
  • 3篇刻蚀
  • 3篇反应离子
  • 3篇反应离子刻蚀
  • 2篇旋涂
  • 2篇旋涂法
  • 2篇生物模板
  • 2篇透镜
  • 2篇准周期
  • 2篇纳米
  • 2篇纳米加工技术
  • 2篇蝴蝶
  • 2篇蝴蝶翅膀
  • 2篇波带片
  • 2篇衬底
  • 2篇翅膀
  • 1篇等离子体

机构

  • 7篇复旦大学
  • 1篇中国科学院
  • 1篇中国科学院上...

作者

  • 7篇陈宜方
  • 7篇张思超
  • 6篇陆冰睿
  • 2篇徐晨
  • 2篇李欣
  • 2篇刘建朋
  • 2篇谢珊珊
  • 2篇马亚琪
  • 1篇邓彪
  • 1篇肖体乔
  • 1篇李欣
  • 1篇陈烁
  • 1篇孙艳

传媒

  • 1篇强激光与粒子...

年份

  • 2篇2019
  • 2篇2017
  • 3篇2015
共 7 条 记 录，以下是 1-7
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排序方式：
亚波长金柱阵列局域表面等离子体共振气液传感器及其制备方法
本发明属于纳米加工技术领域，具体为一种亚波长金柱阵列局域表面等离子体共振气液传感器及其制备方法。本发明利用电子束光刻在电子束光刻胶上形成亚波长周期性的圆孔阵列，进而利用该结构作为支架结合微电镀的方法生长金立柱，在剥离工艺...
陈宜方马亚琪陆冰睿刘建朋张思超
文献传递
大高宽比纳米硅立柱的感应耦合等离子体刻蚀工艺优化被引量：4
2017年
针对氢基硅倍半氧烷(hydrogen silsesquioxane,HSQ)作为深反应离子刻蚀(DRIE)掩膜形成大高宽比纳米硅立柱的工艺进行了系统研究。优化了刻蚀工艺中线圈功率、极板功率和气体流量参数,减小了横向刻蚀,使形貌垂直性得到了更好的控制,并实现了13.3μm高度和低侧壁粗糙度的垂直硅纳米柱阵列,其高宽比(高度/半高宽)达到了36。利用不同的刻蚀工艺条件得到了不同侧壁形貌以及不同尺寸、高度的硅纳米柱结构。
李欣刘建朋陈烁张思超邓彪肖体乔孙艳陈宜方
关键词：HSQ深反应离子刻蚀高宽比硬X射线
无衬底支撑的悬空厚金波带片透镜的制备方法
本发明属于电感耦合等离子体刻蚀技术领域，具体为一种无衬底支撑的悬空厚金波带片透镜的制备方法。其步骤包括：在Si衬底上旋涂HSQ光刻胶，利用电子束光刻的方法在光刻胶上形成波带片透镜的设计图形作为波带片硅模板的刻蚀掩蔽层，然...
陈宜方李欣徐晨张思超朱静远谢珊珊陆冰睿
文献传递
无衬底支撑的悬空厚金波带片透镜的制备方法
本发明属于电感耦合等离子体刻蚀技术领域，具体为一种无衬底支撑的悬空厚金波带片透镜的制备方法。其步骤包括：在Si衬底上旋涂HSQ光刻胶，利用电子束光刻的方法在光刻胶上形成波带片透镜的设计图形作为波带片硅模板的刻蚀掩蔽层，然...
陈宜方李欣徐晨张思超朱静远谢珊珊陆冰睿
利用纳米压印制备带底盘金属孔洞获得全色谱结构色的方法
本发明属于材料技术及纳米加工技术领域，具体为一种利用纳米压印制备带底盘金属孔洞获得全色谱结构色的方法。本发明包括：对衬底表面进行清洗和烘干处理；在衬底上旋涂光刻胶和前烘；对所述光刻胶进行纳米压印；对所述压印后的光刻胶进行...
陆冰睿陈宜方马亚琪张思超
文献传递
一种制备蝴蝶翅膀仿生微纳结构的方法
本发明属于微纳加工技术领域，具体为一种制备蝴蝶翅膀仿生微纳结构的方法。本发明首先在硅基底上采用旋涂法依次交替旋涂两种不同灵敏度的光刻胶若干层，然后利用电子束光刻对光刻胶进行曝光，再利用两种显影液对曝光后的样品进行交替显影...
陈宜方张思超邵金海陆冰睿
文献传递
一种制备蝴蝶翅膀仿生微纳结构的方法
本发明属于微纳加工技术领域，具体为一种制备蝴蝶翅膀仿生微纳结构的方法。本发明首先在硅基底上采用旋涂法依次交替旋涂两种不同灵敏度的光刻胶若干层，然后利用电子束光刻对光刻胶进行曝光，再利用两种显影液对曝光后的样品进行交替显影...
陈宜方张思超邵金海陆冰睿
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