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周茂秀

作品数:2 被引量:1H指数:1
供职机构:安徽大学电子信息工程学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金安徽省高等学校优秀青年人才基金更多>>
相关领域:一般工业技术自动化与计算机技术电子电信更多>>

文献类型

  • 2篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇等效
  • 1篇等效电路
  • 1篇电极
  • 1篇电容
  • 1篇功函数
  • 1篇复合材料
  • 1篇复合材料界面
  • 1篇MOSFET
  • 1篇表面势
  • 1篇存储器
  • 1篇复合材

机构

  • 2篇安徽大学
  • 1篇淮北师范大学

作者

  • 2篇徐太龙
  • 2篇代月花
  • 2篇周茂秀
  • 1篇蒋先伟
  • 1篇杨金
  • 1篇陈军宁
  • 1篇张伟
  • 1篇罗京
  • 1篇许会芳
  • 1篇赵强

传媒

  • 1篇半导体技术
  • 1篇物理学报

年份

  • 2篇2013
2 条 记 录,以下是 1-2
排序方式:
阻变存储器复合材料界面及电极性质研究被引量:1
2013年
采用基于密度泛函理论的第一性原理对比研究了Cu(111)/HfO2(001),Cu(111)/HfO2(010),Cu(111)/HfO2(100)三种复合材料界面模型的失配率、界面束缚能、电荷密度、电子局域函数以及差分电荷密度.计算结果表明:Cu(111)/HfO2(010)失配率最小,界面束缚能最大,界面体系相对最稳定;对比电荷密度及电子局域函数图显示,只有HfO2(010)方向形成的复合材料体系出现了垂直Cu电极方向完整连通的电子通道,表明电子在此方向上具有局域性、连通性,与阻变存储器(RRAM)器件导通方向一致;差分电荷密度图显示,Cu(111)/HfO2(010)复合材料体系界面处存在电荷密度分布重叠的现象,界面处有电子的相互转移、成键的存在;进一步计算了Cu(111)/HfO2(010)体系距离界面不同位置的间隙Cu原子形成能,表明越靠近界面Cu原子越容易进入HfO2体内,在外加电压下易发生电化学反应,从而导致Cu导电细丝的形成与断裂.研究结果可为RRAM存储器的制备及性能的提高提供理论指导和设计工具.
杨金周茂秀徐太龙代月花汪家余罗京许会芳蒋先伟陈军宁
关键词:复合材料
单材料双功函数栅MOSFET的电容模型
2013年
基于表面势理论和电荷平衡方程,建立了一种单材料双功函数栅(single materialdouble workfunction gate,SMDWG)MOSFET的电容模型,分别给出了SMDWG MOSFET的栅-源和栅-漏电容的解析表达式,物理概念清晰,且参数可调。通过与MEDICI模拟结果比较和分析,进一步验证了该物理模型的正确性和可行性。然后,基于上述模型设计了SMDWG MOSFET的电容等效电路,发现在考虑总电容的时候,只需要考虑其中的一个分电容,有效简化了对该器件的计算和分析,对器件的设计和应用具有一定的参考意义。
张伟徐太龙周茂秀赵强代月花
关键词:MOSFET电容表面势等效电路
共1页<1>
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