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谢波玮

作品数:5 被引量:2H指数:1
供职机构:北京有色金属研究总院更多>>
发文基金:北京有色金属研究总院创新基金更多>>
相关领域:一般工业技术电气工程理学更多>>

文献类型

  • 3篇期刊文章
  • 1篇学位论文
  • 1篇会议论文

领域

  • 5篇电气工程
  • 5篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 4篇溅射
  • 4篇磁控
  • 4篇磁控溅射
  • 3篇射频磁控
  • 3篇射频磁控溅射
  • 3篇铁电
  • 3篇铁电薄膜
  • 3篇BA
  • 2篇溅射法
  • 2篇溅射法制备
  • 2篇溅射制备
  • 2篇BST薄膜
  • 1篇英寸
  • 1篇直流磁控
  • 1篇致冷
  • 1篇射频磁控溅射...
  • 1篇热释电性
  • 1篇面阵
  • 1篇介电
  • 1篇焦平面

机构

  • 5篇北京有色金属...

作者

  • 5篇谢波玮
  • 4篇古宏伟
  • 4篇李弢
  • 1篇王霈文
  • 1篇王萍
  • 1篇王小平

传媒

  • 3篇稀有金属
  • 1篇第八届全国超...

年份

  • 1篇2007
  • 1篇2006
  • 2篇2005
  • 1篇2004
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
射频磁控溅射制备Ba_(0.7)Sr_(0.3)TiO_3薄膜的表面结构调控
2007年
研究了Pt/Ti/SiO2/Si基片上制备Ba0.7Sr0.3TiO3(BST7/3)薄膜时,基片加热温度和溅射功率对薄膜显微形貌和成相的影响。实验结果表明:常温下低功率溅射的BST7/3薄膜,表面形貌非常平整,但为非晶态物质的堆积;400℃高功率150 W溅射4 h的BST薄膜,其最大表面起伏约为40 nm;400℃低功率、长时间8 h溅射的BST薄膜,其表面起伏约为12 nm;说明在保证BST充分成相的前提下,可以通过控制溅射功率和时间调控BST薄膜的表面形貌,降低表面粗糙度,使之适于后续器件制备工艺。介电性能测量表明,400℃,75 W,8 h溅射获得的BST7/3薄膜体现出典型的位移型铁电体特征;1 kHz薄膜的损耗约为0.04。
王萍李弢谢波玮古宏伟
关键词:射频磁控溅射BST薄膜表面形貌
射频磁控溅射法制备(100)择优取向Ba_(0.7)Sr_(0.3)TiO_3薄膜
2006年
用射频磁控溅射法在快速热处理过的Pt/Ti/SiO2/Si(100)基体上制备了Ba0.7Sr0.3TiO3薄膜。通过引入溅射因子α,在相同工艺条件(高温大功率溅射)下,对靶材成分进行调整,使薄膜成分无化学计量比偏离。薄膜成相较未调整前有显著改善,低角区的衍射杂峰消失。{100}方向有择优生长,同体材料及sol-gel法制备的BST薄膜有明显不同,研究认为是成分调整后,薄膜成分无偏离所致。
谢波玮李弢古宏伟
关键词:射频磁控溅射铁电薄膜BST
直流磁控溅射制备两英寸YBCO双面超导薄膜
报告了以直流磁控溅射方法在两英寸LaAlO3基片上制备YBCO双面超导薄膜的Tc、Jc和Rs特性.获得的双面YBCO薄膜的厚度大于300nm.研究了双面薄膜的Jc及Tc均匀性,及工艺参数对其影响.结果表明适当降低基片温度...
李弢王霈文古宏伟王小平谢波玮
关键词:磁控溅射工艺参数
文献传递
非致冷红外焦平面阵列用铁电薄膜被引量:2
2005年
在简要阐述红外成像发展现状基础上 ,系统介绍了铁电薄膜的性质、制备及在非致冷红外热成像系统应用中的一些热点问题。重点介绍当前有重大技术突破的介质测辐射热式焦平面探测器 ,比较了热释电模式、介电模式的优缺点及发展前景。由于介质测辐射热式信号获得方式较热释电式有较高的比探测率、响应率、成象精度和质量及较轻的体积和重量 ,可以预测在不断提高探测用铁电薄膜介电温度系数、损耗及大面积均匀性 ,不断改进其读出电路的基础上 。
谢波玮李弢古宏伟
关键词:铁电薄膜热释电性
射频磁控溅射法制备介温敏感(Ba,Sr)TiO<,3>薄膜
红外成像系统最终要实现小型化、低成本、高性能和高可靠性的全被动式工作。光量子探测器有很高的红外响应特性和灵敏度,但致冷要求及昂贵的系统成本一直阻碍其大范围应用。90年代后,特别是近几年热型非致冷红外探测器研究取得了重大突...
谢波玮
关键词:射频磁控溅射BST薄膜铁电薄膜
文献传递
共1页<1>
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