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石文中

作品数：11 被引量：0H指数：0
供职机构：华中科技大学更多>>
相关领域：自动化与计算机技术电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 10篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 1篇电子电信
  • 1篇自动化与计算...

主题

  • 7篇温控
  • 7篇浸液
  • 7篇光刻
  • 5篇温控系统
  • 4篇浸没式光刻
  • 3篇热交换
  • 3篇热交换器
  • 3篇光刻工艺
  • 2篇多路
  • 2篇增压泵
  • 2篇气体压力
  • 2篇气压
  • 2篇温度
  • 2篇温控装置
  • 2篇节流
  • 2篇浸没
  • 2篇精确控制
  • 2篇冷媒
  • 2篇冷媒流量
  • 2篇激光

机构

  • 11篇华中科技大学

作者

  • 11篇石文中
  • 10篇李小平
  • 4篇汤中原
  • 4篇何俊伟
  • 2篇赵艺文

年份

  • 1篇2017
  • 2篇2016
  • 4篇2015
  • 2篇2014
  • 2篇2013
共 11 条 记 录，以下是 1-10
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排序方式：
用于浸没式光刻的浸液温控装置
本发明公开了一种用于浸没式光刻的浸液温控系统，包括：用于浸液流动的浸液管路，待温控的浸液通过一管路进口进入该浸液管路，温控处理后的具有稳定温度的浸液通过该浸液管路的出口输出；用于对所述浸液进行冷却的工艺冷却液回路，工艺冷...
李小平石文中汤中原何俊伟
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精确控制浸没式光刻机浸液温度的装置及其温控方法
本发明公开了一种精确控制浸没式光刻机浸液温度的装置，包括增压泵；初级热交换器，其浸液入口与增压泵出口连通，浸液在其中进行热交换，实现浸液温度的初级调控；次级热交换器，其浸液入口与初级热交换器浸液出口连通，浸液在其中进行再...
李小平纪辉强石文中
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一种用于浸没式光刻的浸液温控系统
本发明公开了一种用于浸没式光刻的浸液温控系统，通过其获得具有稳定温度的浸液，以用于浸没式光刻工艺中，其特征在于，该温控系统包括：用于浸液流动的浸液管路，待温控的浸液通过管路进口进入该浸液管路，温控后的浸液通过该浸液管路出...
李小平石文中汤中原何俊伟
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一种多路液体温度调节装置及温度控制方法
一种多路液体温度调节装置及其温度控制方法，属于液体温度调节装置及其温度控制方法，解决现有光刻机浸没液温度调节控制装置只具有一路输出的温度控制能力以及不能协同调节远端、近端供水温度的问题。本发明的温度调节装置，包括纯水供应...
李小平纪辉强石文中冯加云
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用于浸没式光刻的浸液温控装置
本发明公开了一种用于浸没式光刻的浸液温控系统，包括：用于浸液流动的浸液管路，待温控的浸液通过一管路进口进入该浸液管路，温控处理后的具有稳定温度的浸液通过该浸液管路的出口输出；用于对所述浸液进行冷却的工艺冷却液回路，工艺冷...
李小平石文中汤中原何俊伟
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一种多路液体温度调节装置及温度控制方法
一种多路液体温度调节装置及其温度控制方法，属于液体温度调节装置及其温度控制方法，解决现有光刻机浸没液温度调节控制装置只具有一路输出的温度控制能力以及不能协同调节远端、近端供水温度的问题。本发明的温度调节装置，包括纯水供应...
李小平纪辉强石文中冯加云
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激光光源传输腔室的温控与净化控制方法和系统
本发明公开了一种激光光源的传输腔室内的温控与净化控制系统，包括：设置在光路传输通道的模块腔体之前的二级调压阀，用于调节待进入模块腔体的通道中的气体压力；设置在光路传输通道的气体净化装置和模块腔体之间的毛细管，用于保证光路...
李小平纪辉强石文中赵艺文
一种用于浸没式光刻的浸液温控系统
本发明公开了一种用于浸没式光刻的浸液温控系统，通过其获得具有稳定温度的浸液，以用于浸没式光刻工艺中，其特征在于，该温控系统包括：用于浸液流动的浸液管路，待温控的浸液通过管路进口进入该浸液管路，温控后的浸液通过该浸液管路出...
李小平石文中汤中原何俊伟
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精确控制浸没式光刻机浸液温度的装置及其温控方法
本发明公开了一种精确控制浸没式光刻机浸液温度的装置，包括增压泵；初级热交换器，其浸液入口与增压泵出口连通，浸液在其中进行热交换，实现浸液温度的初级调控；次级热交换器，其浸液入口与初级热交换器浸液出口连通，浸液在其中进行再...
李小平纪辉强石文中
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浸没光刻机浸液温控系统设计分析与实现
浸没光刻机是应用于集成电路制造的关键设备，其浸没系统的浸液温度是影响其性能指标的关键因素之一。浸液温度控制的性能主要由浸液系统的结构与浸液系统的控制算法决定，本文主要研究浸液系统的结构。主要研究工作和结论如下：　　提出了...
石文中
关键词：温度控制系统热交换器
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共2页<12>
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