您的位置： 专家智库 > >

何俊伟

作品数：5 被引量：1H指数：1
供职机构：华中科技大学更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 4篇专利
  • 1篇学位论文

领域

  • 1篇电子电信

主题

  • 5篇浸液
  • 4篇温控
  • 4篇温控系统
  • 4篇浸没式光刻
  • 4篇光刻
  • 2篇温控装置
  • 2篇管路
  • 2篇光刻工艺
  • 1篇电路
  • 1篇热交换
  • 1篇热交换器
  • 1篇温度
  • 1篇温度控制
  • 1篇温度控制算法
  • 1篇浸没
  • 1篇集成电路

机构

  • 5篇华中科技大学

作者

  • 5篇何俊伟
  • 4篇李小平
  • 4篇汤中原
  • 4篇石文中

年份

  • 1篇2016
  • 1篇2015
  • 1篇2014
  • 2篇2013
共 5 条 记 录，以下是 1-5
全选 清除 导出
排序方式：
用于浸没式光刻的浸液温控装置
本发明公开了一种用于浸没式光刻的浸液温控系统，包括：用于浸液流动的浸液管路，待温控的浸液通过一管路进口进入该浸液管路，温控处理后的具有稳定温度的浸液通过该浸液管路的出口输出；用于对所述浸液进行冷却的工艺冷却液回路，工艺冷...
李小平石文中汤中原何俊伟
文献传递
用于浸没式光刻的浸液温控装置
本发明公开了一种用于浸没式光刻的浸液温控系统，包括：用于浸液流动的浸液管路，待温控的浸液通过一管路进口进入该浸液管路，温控处理后的具有稳定温度的浸液通过该浸液管路的出口输出；用于对所述浸液进行冷却的工艺冷却液回路，工艺冷...
李小平石文中汤中原何俊伟
文献传递
一种用于浸没式光刻的浸液温控系统
本发明公开了一种用于浸没式光刻的浸液温控系统，通过其获得具有稳定温度的浸液，以用于浸没式光刻工艺中，其特征在于，该温控系统包括：用于浸液流动的浸液管路，待温控的浸液通过管路进口进入该浸液管路，温控后的浸液通过该浸液管路出...
李小平石文中汤中原何俊伟
文献传递
一种用于浸没式光刻的浸液温控系统
本发明公开了一种用于浸没式光刻的浸液温控系统，通过其获得具有稳定温度的浸液，以用于浸没式光刻工艺中，其特征在于，该温控系统包括：用于浸液流动的浸液管路，待温控的浸液通过管路进口进入该浸液管路，温控后的浸液通过该浸液管路出...
李小平石文中汤中原何俊伟
文献传递
浸没式光刻机浸液温度控制算法研究
浸没式光刻机是现阶段用于集成电路规模生产最先进的设备，分辨率和套刻精度是其关键性能指标，浸液温度是影响上述两个关键指标的主要因素之一。本文针对浸液温度的高精度要求，设计一种浸液温度控制算法。　　该算法借助热交换器，通过工...
何俊伟
关键词：集成电路
文献传递
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0