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付旸

作品数：2 被引量：4H指数：1
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
相关领域：一般工业技术电气工程经济管理更多>>

合作作者

文献类型

  • 1篇中文期刊文章

领域

  • 1篇电气工程
  • 1篇一般工业技术

主题

  • 1篇单晶
  • 1篇单晶片
  • 1篇使用寿命
  • 1篇抛光
  • 1篇抛光垫
  • 1篇抛光效果
  • 1篇晶片
  • 1篇化学机械抛光
  • 1篇机械抛光
  • 1篇硅单晶
  • 1篇硅单晶片

机构

  • 1篇中国电子科技...

作者

  • 1篇陈亚楠
  • 1篇张春翔
  • 1篇田原
  • 1篇付旸

传媒

  • 1篇天津科技

年份

  • 1篇2015
共 2 条 记 录，以下是 1-1
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排序方式：
抛光垫使用寿命对硅单晶片抛光质量影响的研究被引量：4
2015年
化学机械抛光技术已经在超大规模集成电路制造中得到广泛应用,主要用于加工超光滑无损伤的硅单晶衬底和对晶片进行局部和全局平坦化。虽然在化学机械抛光技术中影响硅片抛光效果的因素有很多,但抛光垫是影响抛光效果的关键因素之一。研究了抛光垫使用时间和相应时间硅片的抛光效果之间的关系,指出可通过在抛光过程中控制抛光垫的使用时间,对抛光的工艺参数进行更好的调整。
张春翔陈亚楠田原杨召杰付旸
关键词：化学机械抛光抛光垫抛光效果
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