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王自磊

作品数:10 被引量:11H指数:2
供职机构:四川大学更多>>
发文基金:国家自然科学基金更多>>
相关领域:理学电气工程更多>>

文献类型

  • 5篇专利
  • 4篇期刊文章

领域

  • 4篇理学
  • 1篇电气工程

主题

  • 6篇碳化硼
  • 5篇微球
  • 4篇蒸发设备
  • 4篇衬底
  • 4篇衬底温度
  • 3篇电子束蒸发
  • 2篇电子束
  • 2篇镀膜
  • 2篇系杆
  • 2篇膜料
  • 2篇靶丸
  • 1篇电池
  • 1篇性能研究
  • 1篇栅介质
  • 1篇蒸发制备
  • 1篇太阳能电池
  • 1篇涂层
  • 1篇球面
  • 1篇染料敏化
  • 1篇染料敏化太阳...

机构

  • 9篇四川大学
  • 1篇中国科学院

作者

  • 9篇廖志君
  • 9篇王自磊
  • 7篇卢铁城
  • 6篇伍登学
  • 6篇陶勇
  • 4篇范强
  • 4篇于小河
  • 4篇刘成士
  • 3篇赵利利
  • 2篇林涛
  • 2篇林涛
  • 1篇胡又文
  • 1篇李健
  • 1篇戴建洪

传媒

  • 2篇四川大学学报...
  • 1篇无机材料学报
  • 1篇功能材料

年份

  • 1篇2013
  • 2篇2012
  • 3篇2011
  • 2篇2010
  • 1篇2009
10 条 记 录,以下是 1-9
排序方式:
电子束蒸发技术制备微球碳化硼薄膜的方法与装置
一种电子束蒸发技术制备微球碳化硼薄膜的方法,将碳化硼膜料放到电子束蒸发设备的坩埚中,将清洗、干燥后的微球形衬底放到三维沉积装置的筛网反弹盘里,使微球形衬底位于坩埚正上方20cm~30cm处;在真空条件进行镀膜,镀膜真空度...
廖志君范强王自磊刘成士赵利利卢铁城
文献传递
TiO<Sub>2</Sub>作为MOS结构的栅介质及其栅介质制备方法
本发明涉及一种MOS结构的栅介质TiO<Sub>2</Sub>薄膜及其制备方法,属于半导体器件制作领域。该方法是利用TiO<Sub>2</Sub>代替传统SiO<Sub>2</Sub>作为MOS结构的栅介质,采用电子束蒸...
刘成士赵利利伍登学廖志君范强王自磊胡又文
文献传递
碳化硼球面薄膜及空心微球的制备被引量:5
2012年
采用电子束蒸发镀膜技术,结合磁控滚动方法在φ1 mm的钢球基底上制备碳化硼球面膜层,通过退火、打孔及腐蚀获得碳化硼空心微球.主要研究了球面膜层的宏观形貌、微观结构、成分及初步探讨了不同退火温度(800~1100℃)对核膜结构空心化的影响.利用扫描电子显微镜(SEM)、X射线光电子能谱分析(XPS)、原子力显微镜(AFM)对球面薄膜表面形态和薄膜元素组成进行了分析.结果表明:磁控滚动模式制备的球面膜层表面平整,没有裂纹和孔洞,元素分布均匀.核膜结构(镀膜时间在5~70 h)经900℃以上温度退火,空心化后的球面膜层可实现自支撑,900℃退火的微球表面形貌最好,壁厚可达10μm以上.
于小河卢铁城林涛王自磊陶勇廖志君
微球薄膜制备装置与真空蒸发技术制备碳化硼微球薄膜和靶丸的方法
一种磁吸附微球薄膜制备装置,包括电机、系杆、固定盘、磁体和筛网。一种制备微球碳化硼薄膜的方法,使用安装有上述磁吸附微球薄膜制备装置的电子束蒸发设备,步骤为:(1)将碳化硼膜料放到电子束蒸发设备的坩埚中,将铁磁性微球形衬底...
廖志君林涛于小河王自磊陶勇卢铁城伍登学
跳动及滚动激励制备的碳化硼涂层表面形貌的对比被引量:1
2011年
利用电子束蒸发技术蒸发碳化硼,通过弹跳激励和滚动激励两种方案来随机滚动小球,从而分别在玻璃和钢球心轴上制备了碳化硼涂层.采用扫描电子显微镜对涂层表面形貌进行了分析.同采用弹跳激励制备的涂层相比,在用滚动激励制备的涂层表面不存在裂纹和微粒脱落现象,其微粒生长的更大,相互接合的更致密.经对比证明,在制备碳化硼涂层上,滚动激励装置优于跳动激励装置.
王自磊廖志君陶勇于小河林涛伍登学卢铁城
关键词:电子束蒸发
染料敏化太阳能电池阻挡层的制备及其性能研究被引量:6
2011年
采用电子束蒸发法在光阳极导电玻璃基底上制备了一层致密的TiO2薄膜,并在氧氛围下进行不同温度的退火处理。以此TiO2薄膜为阻挡层来阻止电解质溶液中I3-与导电玻璃基底上光生电子的复合。分别利用X射线衍射(XRD)和X射线光电子能谱(XPS)对此薄膜的结构和成分进行表征。制备不同厚度的TiO2阻挡层薄膜并研究其对电池光电性能的影响。实验结果表明,阻挡层的引入有效地抑制了暗反应的发生,提高了染料敏化太阳能电池(DSSC)的开路电压、短路电流和光电转换效率,比未引入阻挡层的DSSC的光电转换效率提高了31.5%。
陶勇廖志君伍登学王自磊李健戴建洪刘成士
关键词:染料敏化太阳能电池电子束蒸发TIO2阻挡层
微球薄膜制备装置与真空蒸发技术制备碳化硼微球薄膜和靶丸的方法
一种磁吸附微球薄膜制备装置,包括电机、系杆、固定盘、磁体和筛网。一种制备微球碳化硼薄膜的方法,使用安装有上述磁吸附微球薄膜制备装置的电子束蒸发设备,步骤为:(1)将碳化硼膜料放到电子束蒸发设备的坩埚中,将铁磁性微球形衬底...
廖志君林涛于小河王自磊陶勇卢铁城伍登学
文献传递
电子束蒸发技术制备微球碳化硼薄膜的方法与装置
一种电子束蒸发技术制备微球碳化硼薄膜的方法,将碳化硼膜料放到电子束蒸发设备的坩埚中,将清洗、干燥后的微球形衬底放到三维沉积装置的筛网反弹盘里,使微球形衬底位于坩埚正上方20cm~30cm处;在真空条件进行镀膜,镀膜真空度...
廖志君范强王自磊刘成士赵利利卢铁城
文献传递
电子束蒸发制备碳化硼微球涂层的工艺研究
2011年
自行设计一套筛网反弹盘三维沉积装置,用于电子束蒸发制备碳化硼微球涂层.采用电子束蒸发法并结合此装置在直径为1 mm的玻璃小球表面沉积了碳化硼涂层.研究了筛网振动频率、电子束制备工艺对沉积速率、涂层厚度以及涂层表面粗糙度的影响.采用X射线照相技术测试涂层的厚度;XPS测试涂层表面成分;AFM表征涂层的表面形貌和均方根粗糙度.结果表明:涂层主要成分为B_4C,表面较为光滑、均匀;当筛网振动频率为0.25 Hz,且电子束蒸发工艺参数定为:真空度P小于3×10^(-3) Pa,高压U等于6 kV,束流I在100 mA~120mA之间时,所制涂层表面形貌最佳.
陶勇廖志君王自磊范强伍登学卢铁城
关键词:电子束蒸发涂层
共1页<1>
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