田玉祥
- 作品数：1 被引量：4H指数：1
- 供职机构：西安工业大学光电工程学院陕西省薄膜技术与光电检测重点实验室更多>>
- 发文基金：陕西省教育厅科研计划项目西安工业大学校长基金更多>>
- 相关领域：一般工业技术更多>>
- 氧气气氛对氧化铪薄膜性能的影响被引量：4
- 2009年
- 在有氧和无氧气氛条件下,采用真空电子束热蒸发技术在P-Si(100)硅衬底上制备了HfO2薄膜.利用X射线光电子能谱,对薄膜的化学组分进行表征,利用椭偏法对薄膜的膜厚和折射率进行测定,利用紫外可见光谱测量了薄膜的在200 nm^1 200 nm范围内的光透过率,并计算出其光学能隙,利用C-V测试系统对退火后薄膜的介电性能进行测试.结果表明,有氧和无氧条件下制备的薄膜中组分含量存在明显差异,相比于无氧条件下制备的薄膜,有氧条件下制备的薄膜中含有较少的铪单质,因而在可见光范围内具有较高透光率和光学能隙,较低的折射率和更优异的介电性能.
- 惠迎雪杨陈田玉祥徐均琪
- 关键词：电子束蒸发HFO2薄膜透过率椭偏仪C-V特性
