您的位置: 专家智库 > >

张磊

作品数:13 被引量:13H指数:2
供职机构:中国科学院上海微系统与信息技术研究所更多>>
发文基金:上海市科学技术委员会资助项目国家高技术研究发展计划国家自然科学基金更多>>
相关领域:一般工业技术自动化与计算机技术理学更多>>

文献类型

  • 8篇专利
  • 4篇期刊文章
  • 1篇会议论文

领域

  • 2篇自动化与计算...
  • 2篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 7篇振荡器
  • 4篇振动
  • 4篇振动梁
  • 4篇谐振结构
  • 4篇晶向
  • 3篇氧化硅
  • 3篇重掺杂
  • 3篇粒径
  • 2篇压阻
  • 2篇压阻式
  • 2篇溶胶
  • 2篇微电子
  • 2篇温度补偿
  • 2篇纳米
  • 2篇晶种
  • 2篇化学机械抛光
  • 2篇机械抛光
  • 2篇胶体
  • 2篇胶体颗粒
  • 2篇光电

机构

  • 13篇中国科学院
  • 3篇中国科学院研...
  • 3篇上海新安纳电...
  • 1篇复旦大学
  • 1篇中国科学院大...

作者

  • 13篇张磊
  • 7篇李昕欣
  • 7篇杨恒
  • 5篇宋志棠
  • 5篇刘卫丽
  • 4篇汪海波
  • 3篇胡晓凯
  • 3篇张磊
  • 2篇张泽芳
  • 1篇潘忠才
  • 1篇王良咏
  • 1篇秦飞
  • 1篇杨力建

传媒

  • 2篇功能材料与器...
  • 1篇传感器与微系...
  • 1篇电子设计工程

年份

  • 2篇2019
  • 3篇2017
  • 2篇2016
  • 1篇2014
  • 1篇2012
  • 2篇2011
  • 2篇2009
13 条 记 录,以下是 1-10
排序方式:
N型重掺杂恒温控制振荡器及其恒温控制方法
本发明提供一种N型重掺杂恒温控制振荡器及其恒温控制方法,包括:谐振结构、锚点、加热梁及温度传感器;谐振结构包括N型重掺杂纵向振动梁及第一电极;N型重掺杂纵向振动梁及第一电极均沿单晶硅<100>晶向族方向分布;...
杨恒李昕欣游卫龙张磊
文献传递
一种硅溶胶晶种的制备方法
本发明属于微电子及光电子材料技术领域,具体涉及一种硅溶胶晶种的制备方法。本发明的制备方法包括:将碱性硅酸盐质水溶液与酸性硅酸盐质水溶液混合后制得弱碱性混合硅酸盐质水溶液;弱碱性混合硅酸盐质水溶液经水热反应制得硅溶胶晶种。...
胡晓凯宋志棠刘卫丽汪海波张磊
文献传递
微蒸发器、振荡器集成微蒸发器结构及其频率修正方法
本发明提供一种微蒸发器、振荡器集成微蒸发器结构及其频率修正方法,包括:微蒸发台、锚点、支撑梁及金属电极;微蒸发台的一面为蒸发面;锚点位于微蒸发台的两侧,且与微蒸发台相隔一定的间距;支撑梁位于微蒸发台与锚点之间,一端与微蒸...
杨恒游卫龙张磊王小飞李昕欣
文献传递
基于重掺杂的谐振式传感器频率温度系数补偿研究被引量:2
2016年
MEMS谐振式传感器具有精度高、准数字输出、抗干扰能力强等特点,高精度压力传感器、应力传感器等多采用谐振式工作原理。频率温度系数补偿是实现高精度谐振式传感器的关键技术。通过实验研究了利用重掺杂改善硅频率温度系数的技术。实验表明:P型掺杂浓度达到7×1019/cm3时,〈110〉晶向频率温度系数降低到-11.68×10-6/K;N型掺杂浓度达到6×1019/cm3时,〈100〉晶向谐振频率是温度的二次函数,在80℃左右频率温度系数有过零点。首次实验演示了利用低功耗加热控制结合N型重掺杂,当环境温度由30℃变化到40℃时,谐振频率温度漂移仅为1.13×10-7/℃。利用该技术可实现超高温度稳定性的谐振式传感器。
杨力建游卫龙张磊张磊杨恒
关键词:谐振式传感器振荡器温度补偿
压阻式恒温控制振荡器及其制备方法
本发明提供一种压阻式恒温控制振荡器及其制备方法,包括:谐振结构、加热梁、多晶硅高阻层、第一绝缘层及加热电阻;谐振结构包括纵向振动梁及第一电极;纵向振动梁的数量为两根,两根纵向振动梁平行间隔排布;第一电极位于两根纵向振动梁...
杨恒游卫龙张磊王小飞李昕欣
文献传递
压阻式恒温控制振荡器及其制备方法
本发明提供一种压阻式恒温控制振荡器及其制备方法,包括:谐振结构、加热梁、多晶硅高阻层、第一绝缘层及加热电阻;谐振结构包括纵向振动梁及第一电极;纵向振动梁的数量为两根,两根纵向振动梁平行间隔排布;第一电极位于两根纵向振动梁...
杨恒游卫龙张磊王小飞李昕欣
文献传递
一种新型复合磨料对铜的化学机械抛光研究被引量:8
2011年
磨料是化学机械抛光(CMP)中重要的组成部分,是决定抛光平坦化的重要影响因素。采用两步法制备了新型的氧化硅包覆聚苯乙烯(PS)核壳型复合磨料,采用扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM),X射线能量色散谱(EDX)等对复合磨料进行了表征。结果表明所制备的复合磨料具有核壳结构,且表面光滑。随后复合磨料对比硅溶胶对铜化学机械抛光进行研究,采用原子力显微镜(AFM)观测表面的微观形貌,并测量了表面粗糙度。经过复合磨料抛光后的铜片粗糙度为0.58nm,抛光速率为40nm/min。硅溶胶抛光后的铜片的粗糙度是1.95nm,抛光速率是37nm/min。
张磊汪海波张磊汪海波张泽芳王良咏
关键词:化学机械抛光
水玻璃为原料制备纳米氧化硅磨料及应用于硅片抛光(英文)
化学机械抛光技术广泛应用于集成电路制造平坦化工艺制程。本文中以水玻璃为初始原料,通过硅酸分子间的聚合反应流程,制备了化学机械抛光专用胶体二氧化硅纳米研磨料。通过硅酸的持续加入,氧化硅纳米颗粒的直径增加。采用扫描电子显微镜...
胡晓凯宋志棠汪海波刘卫丽潘忠才秦飞张泽芳张磊
关键词:氧化硅磨料化学机械抛光水玻璃
文献传递
一种硅溶胶晶种的制备方法
本发明属于微电子及光电子材料技术领域,具体涉及一种硅溶胶晶种的制备方法。本发明的制备方法包括:将碱性硅酸盐质水溶液与酸性硅酸盐质水溶液混合后制得弱碱性混合硅酸盐质水溶液;弱碱性混合硅酸盐质水溶液经水热反应制得硅溶胶晶种。...
胡晓凯宋志棠刘卫丽汪海波张磊
文献传递
一种聚苯乙烯/氧化硅核壳型纳米复合磨料的制备方法及其应用
本发明涉及一种以聚苯乙烯纳米颗粒作为内核,以氧化硅作为壳层,形成聚苯乙烯/氧化硅核壳型纳米复合磨料抛光液的制备方法,属精密抛光材料制备工艺技术领域。本发明提供一种聚苯乙烯/氧化硅核壳型纳米复合磨料的制备方法,包括如下步骤...
刘卫丽张磊秦飞宋志棠
文献传递
共2页<12>
聚类工具0