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盛斌

作品数：9 被引量：28H指数：4
供职机构：中国科学技术大学核科学技术学院国家同步辐射实验室更多>>
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付绍军
供职机构：中国科学技术大学
研究主题：光栅 离子束刻蚀 软X射线 衍射效率 刻蚀
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
徐向东
供职机构：中国科学技术大学
研究主题：离子束刻蚀 光栅 软X射线 衍射光栅 全息光刻
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
洪义麟
供职机构：中国科学技术大学
研究主题：离子束刻蚀 光栅 全息光刻 衍射光栅 软X射线
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘正坤
供职机构：中国科学技术大学
研究主题：光栅 软X射线 离子束刻蚀 衍射效率 全息
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘颖
供职机构：中国科学技术大学
研究主题：光栅 离子束刻蚀 软X射线 衍射光栅 全息光刻
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
邱克强
供职机构：沈阳工业大学材料科学与工程学院
研究主题：非晶合金 力学性能 光栅 合金 离子束刻蚀
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
周洪军
供职机构：中国科学技术大学
研究主题：多层膜 真空紫外 光束线 磁控溅射 软X射线
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
韦世强
供职机构：中国科学技术大学核科学技术学院国家同步辐射实验室
研究主题：XAFS XAFS研究 X射线吸收精细结构 EXAFS研究 EXAFS
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈上碧
供职机构：中国科学技术大学
研究主题：阈值 HPM 清洗方法 英文 HFO
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
霍同林
供职机构：中国科学技术大学核科学技术学院国家同步辐射实验室
研究主题：多层膜 真空紫外 软X射线 磁控溅射 光束线
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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