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陈亚楠

作品数:12 被引量:28H指数:3
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
发文基金:国家科技部专项基金更多>>
相关领域:电子电信机械工程一般工业技术电气工程更多>>

领域

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主题

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  • 13个晶片
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  • 11个抛光片
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  • 11个机械抛光
  • 10个清洗技术
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机构

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资助

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传媒

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  • 1个润滑与密封

地区

  • 16个天津市
  • 1个北京市
17 条 记 录,以下是 1-10
王云彪
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:抛光片 锗 表面粗糙度 超薄 磷化铟
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨洪星
供职机构:中国电子科技集团公司
研究主题:锗 单晶片 抛光片 晶片 表面粗糙度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵权
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:抛光片 锗 单晶片 表面粗糙度 清洗技术
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张春翔
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:锗 P型 单晶片 多结太阳电池 清洗技术
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
田原
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:锗 粗糙度 抛光片 化学机械抛光 硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张伟才
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:锗 抛光片 化学机械抛光 机械强度 IPA
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
武永超
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:超薄 化学机械抛光 半导体行业 激光技术 激光打标
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
耿莉
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:锗 抛光片 超薄 表面粗糙度 单晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
何远东
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:锗 翘曲度 表面粗糙度 单晶 清洗液
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨红星
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:抛光 贴膜
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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