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高慧莹

作品数:11 被引量:35H指数:4
供职机构:中国电子科技集团公司第四十五研究所更多>>
发文基金:国家高技术研究发展计划更多>>
相关领域:电子电信电气工程更多>>

领域

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  • 2个机械工程
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  • 1个化学工程

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  • 5个化学机械抛光
  • 5个机械抛光
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  • 4个抛光
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刘涛
供职机构:中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题:化学机械抛光 泵头 蠕动泵 压力控制 CMP
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
费玖海
供职机构:中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题:化学机械抛光 CMP 温度控制 CMP工艺 PG
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘洋
供职机构:中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题:粘片机 钢带传动 欧拉公式 张紧力 卡槽
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
左宁
供职机构:中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题:自动检测系统 图像对准 测试点 平移 偏距
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
艾博
供职机构:中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题:数据采集 串行总线 MODBUS_RTU协议 数据采集平台 实时监测
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈学森
供职机构:中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题:多线切割机 齿轮系统 混沌控制 时变啮合刚度 时变刚度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
罗杨
供职机构:中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题:CMP工艺 PG 蓝宝石 抛光机 晶圆测试
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
孙振杰
供职机构:中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题:化学机械抛光 泵头 蠕动泵 CMP 温度控制
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张领强
供职机构:中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题:压力控制 化学机械抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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