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蒲继祖

作品数：6 被引量：1H指数：1
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所更多>>
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领域

  • 10个电子电信
  • 2个电气工程
  • 2个自动化与计算...
  • 1个金属学及工艺
  • 1个机械工程

主题

  • 4个电机
  • 4个晶圆
  • 4个光刻
  • 4个半导体
  • 3个低温共烧陶瓷
  • 3个电池
  • 3个电控
  • 3个电控系统
  • 3个印刷
  • 3个印刷工
  • 3个印刷工艺
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  • 3个丝网印刷
  • 3个伺服
  • 3个伺服系统
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  • 3个线性电机
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机构

  • 10个中国电子科技...
  • 2个中国电子科技...
  • 1个中华人民共和...

资助

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传媒

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  • 1个集成电路应用
  • 1个科技资讯
共 10 条 记 录，以下是 1-10
张云鹏
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：PID算法 伺服系统 程序控制 测量系统 LED光源
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
贾亚飞
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：测量系统 光刻机 非接触 仿真 光强
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
谢秀镯
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：PID算法 刚度 非平面 光刻 键合机
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
费玖海
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：化学机械抛光 CMP 温度控制 CMP工艺 PG
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张建亮
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：瓷片 LTCC 硅电池 线性电机 太阳能
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陶利权
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：点焊技术 半导体 晶体材料 微电子 自动切割机
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
熊朋
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：CMP技术 氮化镓 化学机械抛光 晶片 抛光工艺
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王洪宇
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：机械手 传输系统 硅片 机械手设计 LTCC
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
宋波
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：步进电机驱动器 步进电机 混合式 驱动器 程序控制
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵立华
供职机构：中国电子科技集团公司第四十五研究所
研究主题：半导体设备 Z轴 飞针测试 瓷片 LTCC
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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