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李铭

作品数：168 被引量：5H指数：1
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地区

  • 27个上海市
共 27 条 记 录，以下是 1-10
曾绍海
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：淀积 刻蚀 衬底 侧墙 超大规模集成电路
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
左青云
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：衬底 淀积 空气隙 刻蚀 介质层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
康晓旭
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：像元 红外探测器 衬底 牺牲层 微桥结构
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵宇航
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：图像传感器 像元 光敏元件 光刻 CMOS影像传感器
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈寿面
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：晶体管 光刻 像元 电极 图像
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
袁伟
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：光刻 光刻机 光刻工艺 光刻版 硅片
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
周炜捷
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：干法刻蚀 硅衬底 牺牲层 清洗方法 平坦化
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
钟旻
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：存储器单元 沟道 相变材料 相变 阻挡层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
易春艳
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：图形化 晶体管 鱼鳍 掩膜 光刻
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
黄仁东
供职机构：上海集成电路研发中心
研究主题：刻蚀 金属栅 金属 淀积 抛光
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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