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洪义麟

作品数：184 被引量：403H指数：11
供职机构：中国科学技术大学更多>>
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付绍军
供职机构：中国科学技术大学
研究主题：光栅 离子束刻蚀 软X射线 衍射效率 刻蚀
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
徐向东
供职机构：中国科学技术大学
研究主题：离子束刻蚀 光栅 软X射线 衍射光栅 全息光刻
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘颖
供职机构：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
研究主题：光栅 离子束刻蚀 软X射线 衍射光栅 全息光刻
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘正坤
供职机构：中国科学技术大学
研究主题：光栅 软X射线 离子束刻蚀 衍射效率 全息
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
邱克强
供职机构：沈阳工业大学材料科学与工程学院
研究主题：非晶合金 力学性能 光栅 合金 离子束刻蚀
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陶晓明
供职机构：中国科学技术大学
研究主题：离子束刻蚀 软X射线 光刻掩模 全息光刻 光刻胶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
霍同林
供职机构：中国科学技术大学核科学技术学院国家同步辐射实验室
研究主题：多层膜 真空紫外 软X射线 光束线 离子束刻蚀
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
傅绍军
供职机构：中国科学技术大学核科学技术学院国家同步辐射实验室
研究主题：离子束刻蚀 软X射线 全息光刻 衍射光栅 光刻胶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈火耀
供职机构：中国科学技术大学
研究主题：光栅 软X射线 近场 全息 线密度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
周洪军
供职机构：中国科学技术大学
研究主题：多层膜 真空紫外 光束线 软X射线 离子束刻蚀
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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