2024年8月22日
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毛卫东
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武汉大学
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相关领域:
理学
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合作作者
王少阶
武汉大学
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武汉大学
孙同年
河北半导体研究所
孙聂枫
河北半导体研究所
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孙同年
供职机构:中国电子科技集团第十三研究所
研究主题:磷化铟 晶体生长 坩埚 INP VGF
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孙聂枫
供职机构:中国电子科技集团第十三研究所
研究主题:磷化铟 坩埚 晶体生长 INP 籽晶
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王柱
供职机构:武汉大学
研究主题:正电子湮没 正电子 正电子寿命 GASB 半导体
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王少阶
供职机构:武汉大学
研究主题:正电子湮没 正电子 谱学研究 自由体积 高聚物
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