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何远东

作品数：9 被引量：17H指数：3
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

领域

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  • 1个水利工程
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主题

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  • 14个锗
  • 14个粗糙度
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  • 13个晶片
  • 12个面粗糙度
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  • 10个单晶片
  • 10个电池
  • 10个抛光
  • 10个化学机械抛光
  • 10个机械抛光
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  • 9个清洗技术
  • 9个铌酸锂
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  • 8个化学腐蚀
  • 7个锗单晶

机构

  • 16个中国电子科技...
  • 3个中国电子科技...
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资助

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传媒

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地区

  • 13个天津市
  • 3个北京市
共 16 条 记 录，以下是 1-10
杨洪星
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：锗 单晶片 抛光片 晶片 表面粗糙度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张伟才
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 抛光片 化学机械抛光 机械强度 IPA
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈晨
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 抛光片 锗单晶 英寸 硅-硅直接键合
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
耿莉
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 抛光片 超薄 表面粗糙度 单晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王云彪
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：抛光片 锗 表面粗糙度 超薄 磷化铟
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
范红娜
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：清洗技术 抛光片 粗糙度 锗 研磨
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
田原
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 粗糙度 抛光片 化学机械抛光 硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
苏鹏飞
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：硅 厚度变化 翘曲度 损伤层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
闫萍
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：区熔 硅单晶 区熔硅单晶 高阻 少子寿命
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈亚楠
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 抛光 清洗技术 硅抛光片 抛光垫
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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