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赵权
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:抛光片 锗 单晶片 表面粗糙度 清洗技术
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
佟丽英
供职机构:中国电子科技集团公司
研究主题:单晶片 抛光片 电阻率 硅单晶 少子寿命
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
康洪亮
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:倒角 硅片 砂轮 APCVD 转速
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨洪星
供职机构:中国电子科技集团公司
研究主题:锗 单晶片 抛光片 晶片 表面粗糙度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张伟才
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:锗 抛光片 化学机械抛光 机械强度 IPA
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘春香
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:锗 单晶片 粗糙度 超薄 清洗技术
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
武永超
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:超薄 化学机械抛光 半导体行业 激光技术 激光打标
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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