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8 条 记 录,以下是 1-8
刘旸
供职机构:中国电子科技集团公司
研究主题:势垒 分立器件 硅片 并联 编程
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘昕阳
供职机构:中国电子科技集团公司
研究主题:二极管 阻挡层 湿法刻蚀 湿法 MCR
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
唐冬
供职机构:中国电子科技集团公司
研究主题:势垒 金属 肖特基二极管 NICR 分立器件
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
孔明
供职机构:中国电子科技集团公司
研究主题:二极管 集成电路 阻挡层 湿法刻蚀 湿法
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
林洪春
供职机构:中国电子科技集团公司
研究主题:MOS器件 分压 二极管 硅片 阻挡层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵鹤然
供职机构:中国电子科技集团公司
研究主题:电子封装 集成电路 管壳 封装结构 压力源
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
吴会利
供职机构:中国电子科技集团公司
研究主题:暗电流 反向击穿电压 并联 VDMOS器件 编程
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
郑莹
供职机构:中国电子科技集团公司
研究主题:VDMOS器件 氧化层 暗电流 反向击穿电压 阈值电压
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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