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郑莹

作品数：11 被引量：10H指数：2
供职机构：中国电子科技集团公司更多>>
相关领域：电子电信电气工程更多>>

合作作者

领域

  • 3个电气工程
  • 2个电子电信
  • 1个自动化与计算...

主题

  • 3个电池
  • 3个电流
  • 3个氧化层
  • 3个气相沉积
  • 3个紫光
  • 3个化学气相
  • 3个化学气相沉积
  • 3个光电
  • 3个光电池
  • 3个光电转化效率
  • 3个硅烷
  • 3个氨气
  • 3个暗电流
  • 3个VDMOS器...
  • 2个电路
  • 2个动态性能
  • 2个外延层
  • 2个漏极
  • 1个带隙
  • 1个带隙基准

机构

  • 4个中国电子科技...
  • 2个中国电子科技...

传媒

  • 2个微处理机
  • 1个电子与封装

地区

  • 4个北京市
共 5 条 记 录，以下是 1-5
吴会利
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：暗电流 反向击穿电压 并联 VDMOS器件 编程
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈桂梅
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：氨气 硅烷 光电转化效率 光电池 暗电流
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵子健
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：氨气 硅烷 光电转化效率 光电池 暗电流
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
马洪江
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：二极管 阻挡层 湿法刻蚀 湿法 氧化层
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
姜立娟
供职机构：中国电子科技集团公司第四十七研究所
研究主题：薄膜电阻 高稳定 氧化层 VDMOS器件 动态特性
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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