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杨洪星
供职机构:中国电子科技集团公司
研究主题:锗 单晶片 抛光片 晶片 表面粗糙度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵权
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:抛光片 锗 单晶片 表面粗糙度 清洗技术
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘春香
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:锗 单晶片 粗糙度 超薄 清洗技术
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
于妍
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:粗糙度 化学腐蚀 碱性腐蚀 单晶片 硅单晶
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
许德洪
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:超纯水 半导体行业 半导体 节能减排 SIC
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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