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胡延年
作品数:
9
被引量:4
H指数:1
供职机构:
辽宁大学物理学院
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相关领域:
电子电信
理学
自动化与计算机技术
电气工程
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合作作者
徐伟
天津理工学院自动化学院自动化工...
王中文
辽宁大学信息学院电子信息科学与...
吴春瑜
辽宁大学信息学院电子信息科学与...
孙立红
沈阳化工学院数理系
张雯
辽宁大学
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机构
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作者
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胡延年
3篇
徐伟
2篇
吴春瑜
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王中文
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孙玉芳
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石广元
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吕品
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张绍成
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辽宁大学学报...
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半导体情报
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天津理工学院...
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天津冶金
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微处理机
年份
1篇
2008
5篇
1998
2篇
1997
1篇
1996
共
9
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未知掺杂MOS结构少子产生寿命空间分布研究
1997年
本文采用线性扫描法测定未知掺杂MOS结构少子产生寿命空间分布,结果表明。
孙玉芳
盛浩然
王中文
尚世琦
张文
胡延年
吕品
吴春瑜
关键词:
少子产生寿命
半导体器件
MOS器件
微机控制的串级调速系统
1997年
就串级调速系统实现微机控制的具体设计问题、微机系统、硬件和软件等三方面进行了介绍。
徐伟
胡延年
庄雅娜
关键词:
串级调速
微机控制
异步电机
湿度变送器信号调理电路的设计
被引量:3
2008年
利用薄膜电容湿度传感器设计了湿度变送器.湿度变送器以湿敏元件为核心,利用或非门电路或者555电路构成检测电路,利用运算放大器OP295和BD237构成输出电路,实现4~20 mA电流输出.利用RCV420构成输出电路,实现0~5 V电压输出.利用盐饱和溶液标定法对湿度变送器进行标定,制出精度达±2%的湿度变送器.经过实际应用证明,其硬件结构简单,成本低,具有较好的测量精度,适于日常生活和工业过程控制.
孙立红
胡延年
关键词:
传感器
变送器
难熔金属及硅化物薄膜制备技术研究
1998年
本文对难熔金属及其硅化物的形成、特性进行了研究.主要对难熔金属Mo、难熔金属硅化物TiSi2、PtSi2等进行了探讨,采取了溅射难熔金属、热硅化反应的手段,对解决VLSI工艺的某些问题,如:(1)解决由于MOS电路图形尺寸缩小带来的栅电阻增大的问题;(2)采用硅化物(如PtSi2)-阻挡层(W、Mo、Ti等)—Al多层金属布线。
胡延年
徐伟
张绍成
关键词:
磁控溅射
难熔金属
硅化物
VDMOS结构击穿电压的设计与分析
被引量:1
1998年
本文引用了附加有浮动电位保护环和场板的VDMOS结构击穿电压的解析表达式,描述了浮动电位保护环和场板效应对穿通击穿电压的改进,经比较。
胡延年
关键词:
保护环
击穿电压
RG-MOSFET的I_(DS)特性分析
1998年
以普通长沟道MOSFET的电流模型为基础,推导出RG—MOSFET一级近似下电流模型的解析表达式,并对其物理机制进行了较详细的分析讨论。
石广元
胡延年
王中文
关键词:
电流特性
I-V特性
场效应晶体管
一种测定向列相液晶弹性常数比的近似方法──C—V技术
1996年
本文给出一种用C—C技术测定向列相液晶的弹性常数比的方法.结果表明,本文方法简单、直观,并具有一定的精确性.
吴春瑜
胡延年
孙玉芳
张雯
盛浩然
关键词:
液晶
向列相液晶
难熔金属及硅化物薄膜特性研究
1998年
对难熔金属及其硅化物的形成、特性进行了研究。采用溅射难熔金属、热硅化反应的方法,解决了VLSI工艺中由于MOS电路图形尺寸缩小带来的栅电阻增大的问题;采用硅化物阻挡层和A1多层金属布线方法,解决了欧姆接触和铝的电迁移问题。
胡延年
关键词:
磁控溅射
难熔金属
硅化物
VLSI
难熔金属及硅化物薄膜制备技术研究
1998年
本文对难熔金属及其硅化物的形成、特性进行了研究.主要对难熔金属Mo、难熔金属硅化物TiSi2、PtSi2等进行了探讨.采用溅射难熔金属、热硅化反应的手段,对解决VLSI工艺的某些问题,如:解决由于MOS电路图形尺寸缩小带来的概电阻增大的问题以及采用硅化物(如PtSi2)一阻挡层(W、MO、Ti等)一Al多层金属布线、解决欧姆接触和铝的电迁移问题起了极好的作用.
徐伟
胡延年
关键词:
磁控溅射
难熔金属
硅化物
VLSI
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