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王文泽

作品数:5 被引量:19H指数:3
供职机构:南京航空航天大学机电学院更多>>
发文基金:国家自然科学基金中国博士后科学基金江苏省博士后科研资助计划项目更多>>
相关领域:金属学及工艺一般工业技术机械工程理学更多>>

文献类型

  • 5篇中文期刊文章

领域

  • 5篇金属学及工艺
  • 1篇机械工程
  • 1篇一般工业技术
  • 1篇理学

主题

  • 4篇面粗糙度
  • 4篇表面粗糙度
  • 4篇粗糙度
  • 3篇材料去除率
  • 1篇石英玻璃
  • 1篇水基
  • 1篇抛光
  • 1篇抛光液
  • 1篇切深
  • 1篇模型修正
  • 1篇磨粒
  • 1篇晶体
  • 1篇LBO晶体
  • 1篇掺铈

机构

  • 5篇南京航空航天...
  • 1篇中国科学院

作者

  • 5篇王文泽
  • 5篇左敦稳
  • 5篇朱永伟
  • 4篇李军
  • 3篇王慧敏
  • 2篇夏磊
  • 2篇黄建东
  • 1篇胡章贵
  • 1篇李鹏鹏
  • 1篇宋龙龙

传媒

  • 3篇金刚石与磨料...
  • 1篇机械工程学报
  • 1篇功能材料

年份

  • 1篇2016
  • 3篇2015
  • 1篇2013
5 条 记 录,以下是 1-5
排序方式:
固结磨料研磨K9玻璃表面粗糙度模型修正
2015年
考虑磨粒轨迹和研磨垫弹性的影响,分析磨粒间距的概率密度函数,计算磨粒轨迹重叠率;引入与研磨参数相关的修正因子,并确定其值,修正固结磨料研磨K9玻璃表面粗糙度公式,实验验证修正模型。结果表明:修正后,K9玻璃表面粗糙度模型计算值与实验值误差控制在4%以内。显著提高K9玻璃表面粗糙度的预测精度,有效指导其研磨方案设计,提高加工效率。
王慧敏李军王文泽黄建东朱永伟左敦稳
关键词:表面粗糙度模型修正
固结磨料研磨掺铈玻璃与K9玻璃的对比研究被引量:5
2013年
在相同研磨条件下,采用固结磨料研磨垫研磨掺铈玻璃和K9玻璃,比较掺铈玻璃和K9玻璃的研磨材料去除率,研磨摩擦系数值和加工后表面质量。研究结果表明:金刚石固结磨料研磨垫对掺铈玻璃的材料去除率和研磨摩擦系数小于K9玻璃,表面质量相对较优。掺铈玻璃残屑中的Ce与Si在金刚石颗粒表面及磨粒之间形成包裹层和填覆层,改变材料去除机理,导致材料去除率和摩擦系数下降,获得更优的表面质量。
夏磊李军李鹏鹏朱永伟王文泽左敦稳
关键词:材料去除率
磨粒粒径对固结磨料研磨石英玻璃的加工性能影响被引量:8
2015年
固结磨料研磨垫的磨粒粒径是影响其加工效率和表面质量,以及下阶段抛光过程的重要因素。使用5μm、14μm和30μm三种粒径的金刚石固结磨料研磨垫加工石英玻璃,分析磨粒粒径对工件表面质量、材料去除率、声发射信号、摩擦系数和磨屑的影响,并结合磨粒切深选择最佳磨粒粒径。结果表明:随着磨粒粒径增大,材料去除率和表面粗糙度值均增大,声发射信号的均值和振幅显著提高,摩擦系数到达稳定水平需要的时间延长。14μm粒径磨粒的切深分布接近石英玻璃的脆塑转变临界切深201.2nm。选用粒径14μm的金刚石固结磨料研磨垫加工石英玻璃,其材料去除率为5.65μm/min,石英玻璃的表面粗糙度值Ra为66.8nm,满足硬脆材料的高效、高质量研磨要求。
王文泽李军夏磊王慧敏朱永伟左敦稳
关键词:石英玻璃材料去除率表面粗糙度
固结磨料研磨K9玻璃表面粗糙度模型被引量:7
2015年
表面粗糙度模型是研磨过程设计和工艺参数选择的重要依据,K9玻璃是应用最广泛的光学材料之一。建立研磨K9玻璃表面粗糙度模型有利于提高加工效率、节约生产成本。简化固结磨料研磨过程,基于研磨垫表面微结构,计算研磨过程中参与研磨的有效磨粒数和单颗磨粒切入工件深度,利用研磨过程中受力平衡,建立固结磨料研磨K9玻璃表面粗糙度模型。采用不同磨粒粒径和不同磨料浓度的固结磨料研磨垫以及不同压力研磨K9玻璃验证表面粗糙度模型。结果表明:固结磨料研磨K9玻璃的表面粗糙度与磨粒粒径、研磨压力1/3次方成正比,与研磨垫浓度2/9次方成反比。表面粗糙度理论值与试验值随研磨压力、磨粒粒径和研磨垫浓度的变化趋势吻合。利用该模型能够成功预测固结磨料研磨K9玻璃表面粗糙度,指导研磨过程设计及加工过程中研磨垫和工艺参数的选择,可靠性高。
李军王慧敏王文泽黄建东朱永伟左敦稳
关键词:表面粗糙度
固结磨料抛光LBO晶体非水基抛光液优化
2016年
三硼酸锂(LBO)晶体是优良的非线性光学晶体材料,抛光后晶体表面水份残留导致晶体潮解,影响器件的使用性能。采用非水基抛光液固结磨料抛光LBO晶体,降低水含量,研究非水基抛光液中去离子水、乳酸、双氧水等含量对材料去除率和表面粗糙度的影响,并综合优化得到高材料去除率和优表面质量的抛光液组分。研究表明,抛光液中去离子水浓度16%、乳酸22%、双氧水5%为最优抛光液组分,采用优化的抛光液固结磨料抛光LBO晶体的材料去除率达到392nm/min,表面粗糙度为0.62nm,实现了LBO晶体表面的高效高质量抛光,同时避免了抛光过程中水的大量使用。
宋龙龙李军王文泽胡章贵朱永伟左敦稳
关键词:材料去除率表面粗糙度
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