您的位置: 专家智库 > >

孙玉宝

作品数:6 被引量:2H指数:1
供职机构:西北工业大学更多>>
发文基金:教育部“新世纪优秀人才支持计划”国家自然科学基金陕西省自然科学基金更多>>
相关领域:电子电信金属学及工艺更多>>

文献类型

  • 4篇专利
  • 2篇期刊文章

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇金属学及工艺

主题

  • 4篇电极
  • 2篇氧离子
  • 2篇引线
  • 2篇真空蒸镀
  • 2篇抛光
  • 2篇碲锌镉
  • 2篇外引线
  • 2篇离子
  • 2篇离子溅射
  • 2篇结合力
  • 2篇金电极
  • 2篇刻蚀
  • 2篇刻蚀工艺
  • 2篇化学抛光
  • 2篇基底
  • 2篇机械抛光
  • 2篇溅射
  • 2篇工作气压
  • 1篇离子刻蚀
  • 1篇晶片

机构

  • 6篇西北工业大学

作者

  • 6篇任洁
  • 6篇孙玉宝
  • 6篇傅莉
  • 2篇查钢强
  • 2篇聂中明
  • 2篇査钢强

传媒

  • 1篇功能材料与器...
  • 1篇压电与声光

年份

  • 1篇2012
  • 2篇2011
  • 3篇2010
6 条 记 录,以下是 1-6
排序方式:
CdZnTe像素探测器表面的氧离子刻蚀工艺被引量:1
2010年
本文报道了CdZnTe像素探测器电极的氧离子刻蚀工艺。通过I-V特性、PL谱以及XPS等实验结果分析了氧离子刻蚀对CdZnTe表面成分、缺陷以及漏电流的影响。研究结果表明,表面氧离子刻蚀在CdZnTe晶体表面形成了致密氧化层。刻蚀功率过大时,刻蚀过程中氧离子轰击会对CdZnTe晶体表面造成损伤,使表面漏电流急剧增大。减小刻蚀功率,延长刻蚀时间,可以增强刻蚀过程中的化学作用,减少CdZnTe晶片的表面氧化与损伤,使表面漏电流降低。
孙玉宝傅莉任洁査钢强
关键词:CDZNTE晶片表面性能
在碲锌鎘晶体上制备金电极的方法
本发明公开了一种在碲锌鎘晶体上制备金电极的方法,用于在在碲锌鎘晶体上制备金电极以及引出线,所述方法首先选择电阻大于10<Sup>9</Sup>Ω的高阻CZT作为电极的CZT基底;然后溅射一层Au膜;蒸镀一层Au膜;然后立...
傅莉任洁聂中明孙玉宝
文献传递
碲锌镉像素探测器电极的钝化方法
本发明公开了一种碲锌镉像素探测器电极的钝化方法,用于对碲锌镉像素探测器电极进行钝化,降低漏电流。所述方法首先采用CdZnTe晶体,进行线切割,研磨、机械抛光、清洗后在2%Br-MeOH中化学抛光,得到待用的CdZnTe晶...
傅莉任洁孙玉宝查钢强
文献传递
在碲锌鎘晶体上制备金电极的方法
本发明公开了一种在碲锌鎘晶体上制备金电极的方法,用于在在碲锌鎘晶体上制备金电极以及引出线,所述方法首先选择电阻大于10<Sup>9</Sup>Ω的高阻CZT作为电极的CZT基底;然后溅射一层Au膜;蒸镀一层Au膜;然后立...
傅莉任洁聂中明孙玉宝
文献传递
EPG 535光刻胶氧离子刻蚀工艺的研究被引量:1
2011年
采用反应离子刻蚀(RIE)技术,对EPG 535光刻胶和碲锌镉(CZT)基体刻蚀工艺进行研究,采用原子力显微镜(AFM)法测试CZT基体刻蚀前后的表面质量,探讨了EPG 535光刻胶刻蚀速率和CZT基体表面粗糙度的影响因素。结果表明,当RF功率为60 W、氧气气压为1.30 Pa、氧气流量为40 cm3/min,光刻胶达到最大刻蚀速率;随着RF功率降低,刻蚀后CZT基体的表面粗糙度降低。实验优化的刻蚀参数为:RF功率40 W、氧气气压1.30 Pa、氧气流量40 cm3/min。
任洁傅莉孙玉宝査钢强
关键词:EPG刻蚀速率
碲锌镉像素探测器电极的钝化方法
本发明公开了一种碲锌镉像素探测器电极的钝化方法,用于对碲锌镉像素探测器电极进行钝化,降低漏电流。所述方法首先采用CdZnTe晶体,进行线切割,研磨、机械抛光、清洗后在2%Br-MeOH中化学抛光,得到待用的CdZnTe晶...
傅莉任洁孙玉宝查钢强
共1页<1>
聚类工具0