您的位置： 专家智库 > >

刘登华

作品数：4 被引量：0H指数：0
供职机构：中国电子科技集团第二十四研究所更多>>
相关领域：电子电信更多>>

合作作者

文献类型

  • 2篇期刊文章
  • 2篇专利

领域

  • 2篇电子电信

主题

  • 2篇电化学腐蚀
  • 2篇湿法
  • 2篇注入机
  • 2篇微机电系统
  • 2篇离子注入
  • 2篇离子注入机
  • 2篇密封式
  • 2篇化学腐蚀
  • 2篇化学溶液
  • 2篇机电系统
  • 2篇电系统
  • 1篇灯丝
  • 1篇等离子体
  • 1篇阳极
  • 1篇质心
  • 1篇离子
  • 1篇离子源
  • 1篇绝缘
  • 1篇绝缘子

机构

  • 4篇中国电子科技...
  • 1篇电子科技大学

作者

  • 4篇刘登华
  • 2篇徐岚
  • 2篇邹昭伟
  • 2篇冯志成
  • 1篇刘道广
  • 1篇刘兴钊
  • 1篇刘玉奎
  • 1篇印子华
  • 1篇唐绍根
  • 1篇王保刚

传媒

  • 2篇微电子学

年份

  • 1篇2019
  • 1篇2010
  • 1篇2009
  • 1篇2005
共 4 条 记 录，以下是 1-4
全选 清除 导出
排序方式：
硅片腐蚀单面保护夹具
本发明公开了一种硅片腐蚀单面保护夹具。该夹具包括有主体密封座、密封盖、内部加强板、气导管以及气导连接件等。通过其外部主体座密封式设计、内部加强板的结构设计和加装气体导出装置设计，使该夹具在湿法化学腐蚀和电化学腐蚀工艺中，...
刘登华徐岚冯志成
文献传递
离子源灯丝绝缘子的优化设计
2005年
通过对离子注入机离子源灯丝绝缘子的结构、尺寸、实际工作效果等方面的分析,提出了一种注入机离子源灯丝绝缘子的优化设计。该方案减少了离子源因绝缘效果不良引起的系统工作不稳定故障,灯丝使用寿命延长至50 h以上。
刘登华刘道广刘兴钊刘玉奎印子华邹昭伟王保刚
关键词：离子注入机离子源等离子体灯丝阳极
硅片腐蚀单面保护夹具
本发明公开了一种硅片腐蚀单面保护夹具。该夹具包括有主体密封座、密封盖、内部加强板、气导管以及气导连接件等。通过其外部主体座密封式设计、内部加强板的结构设计和加装气体导出装置设计，使该夹具在湿法化学腐蚀和电化学腐蚀工艺中，...
刘登华徐岚冯志成
文献传递
用于离子注入机剂量控制器的质心修正算法
2019年
针对圆盘式全机械扫描注入机,分析了传统束斑中心算法的缺陷和问题,提出质心的概念来表征束斑的分布,并提出了一种用于注入机剂量控制器的质心修正算法。对这两种算法进行分析、仿真和验证。结果表明,采用质心修正算法后,有效解决了束斑的不同分布对注入剂量精度、片间均匀性和批次间重复性的影响。
唐绍根李海燕邹昭伟刘登华
关键词：离子注入机
全选 清除 导出
共1页<1>
聚类工具0