赵海涛
- 作品数：5 被引量：0H指数：0
- 供职机构：河北师范大学物理科学与信息工程学院更多>>
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- 高频容性氢等离子体的特征
- 研究高频辉光放电等离子体特征的目的在于定量理解等离子体参量的时空分布和输运规律,从理论上深入研究气体放电中所发生的物理和化学机制。高频容性氢等离子体在材料处理广泛应用于等离子体材料处理的刻蚀、沉积和一些微电子设备的表面处...
- 姚福保张连珠赵海涛杨巍
- 关键词：等离子体高频放电
- 高频容性氢等离子体的特征
- <正>研究高频辉光放电等离子体特征的目的在于定量理解等离子体参量的时空分布和输运规律,从理论上深入研究气体放电中所发生的物理和化学机制。高频容性氢等离子体在材料处理广泛应用于等离子体材料处理的刻蚀、沉积和一些微电子设备的...
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- 关键词：等离子体高频放电
- 文献传递
- 氢气甚高频与高频容性耦合放电等离子体特征的比较
- 2011年
- 开发了氢气甚高频(60MHz)容性耦合放电的PIC/MC模型。在模型中考虑了带电粒子(e,H+,H2+,H3+)与H2的21种碰撞反应过程,模拟了氢气甚高频放电射频电场和电势分布以及电子和氢离子(H+,H2+,H3+)粒子密度和平均能量分布,并与频率为13.56MHz的放电结果进行了比较。结果表明,相对于频率13.56MHz的放电,氢气甚高频放电等离子体电势增高,导致两电极附近的电场增强;另外,两鞘层厚度变窄并且电子和H3+离子平均能量减小,其总密度却增加。H3+离子为氢气甚高频放电空间的主要离子,H2+离子密度比H3+离子小约2～3个数量级。
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- N_2-Ar射频放电表面氮化的等离子体特性模拟
- 2012年
- N2-Ar射频放电等离子体广泛应用于微电子工业的刻蚀、氮化物薄膜的制备及金属表面氮化等技术领域。开发了N2-Ar混合气体容性耦合射频放电PIC/MC自洽模型,模型主要描述了e-,N2+,N+,Ar+等主要带电粒子的行为分布。等离子体的碰撞过程分别考虑了带电粒子(e-,N2+,N+,Ar+)与基态中性N2分子和Ar原子的21种碰撞反应过程。模拟结果表明,在纯N2及N2-Ar混合气体容性耦合射频放电中,各种带电粒子的数密度都在等离子体区达到最大值,且氮分子离子为主要粒子;在N2容性耦合射频放电中,加入10%氩气时,N+平均能量有所增加,在射频电极处两种氮离子(N2+,N+)高能粒子所占比例增加。本研究对认识N2-Ar射频放电等离子体过程微观机理具重要意义。
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- 氮气射频放电与直流放电PIC/MC模拟的比较
- 2012年
- 建立氮气容性射频等离子体过程的PIC/MC模型,将模拟结果与直流放电进行比较.结果表明:射频等离子体粒子(e,N 2+,N+)的平均密度较直流放电约大一个量级,在射频电极附近粒子(e,N 2+,N+)的平均能量比直流放电阴极附近的能量低3倍左右;密度偏低的原子离子N+在两电极附近具较高的能量,能量较低的分子离子N 2+在放电空间具较高密度,N 2+的密度大约是N+的6倍;计算的电子能量几率分布与测量结果一致.
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