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唐剑平

作品数：2 被引量：3H指数：1
供职机构：中国电子科技集团第五十八研究所更多>>
相关领域：电子电信机械工程更多>>

合作作者

领域

  • 5个电子电信
  • 2个机械工程
  • 1个化学工程
  • 1个金属学及工艺
  • 1个电气工程
  • 1个自动化与计算...
  • 1个一般工业技术
  • 1个文化科学
  • 1个理学

主题

  • 3个电容
  • 3个电容器
  • 3个阻抗匹配
  • 3个微波
  • 3个功放
  • 3个功放器
  • 3个功率放大
  • 3个功率放大器
  • 3个放大器
  • 3个LDMOS
  • 2个氧化铝薄膜
  • 2个有限元
  • 2个有限元分析
  • 2个原子层沉积
  • 2个深槽
  • 2个热驱动
  • 2个介电
  • 2个介电特性
  • 2个可变电容
  • 2个ALD

机构

  • 4个中国电子科技...
  • 1个苏州科技学院
  • 1个中国科学院
  • 1个苏州科技大学

资助

  • 1个国家自然科学...
  • 1个苏州市科技发...
  • 1个江苏省产学研...
  • 1个江苏省高等学...
  • 1个江苏省高校自...
  • 1个住房和城乡建...

传媒

  • 5个电子与封装
  • 1个压电与声光
  • 1个苏州科技学院...
  • 1个课程教育研究
  • 1个第十二届全国...
  • 1个第十六届全国...

地区

  • 5个江苏省
共 5 条 记 录，以下是 1-5
王涛
供职机构：中国电子科技集团第五十八研究所
研究主题：LDMOS 功率放大器 功放器 微波 阻抗匹配
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
李俊
供职机构：中国电子科技集团第五十八研究所
研究主题：氧化铝薄膜 ALD 介电特性 深槽 原子层沉积
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨树坤
供职机构：中国电子科技集团第五十八研究所
研究主题：LDMOS 功率放大器 功放器 微波 阻抗匹配
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈杰
供职机构：中国电子科技集团第五十八研究所
研究主题：氧化铝薄膜 ALD 介电特性 深槽 原子层沉积
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
沈娇艳
供职机构：苏州科技大学
研究主题：磁熵变 极板 通孔 MEMS 磁制冷材料
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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