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武永超

作品数：9 被引量：20H指数：3
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所更多>>
相关领域：电子电信机械工程更多>>

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地区

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共 14 条 记 录，以下是 1-10
赵权
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：抛光片 锗 单晶片 表面粗糙度 清洗技术
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王云彪
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：抛光片 锗 表面粗糙度 超薄 磷化铟
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨洪星
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：锗 单晶片 抛光片 晶片 表面粗糙度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陈亚楠
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 抛光 清洗技术 硅抛光片 抛光垫
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘春香
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 单晶片 粗糙度 超薄 清洗技术
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张伟才
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：锗 抛光片 化学机械抛光 机械强度 IPA
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
陆峰
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：表面活性剂 锗 P型 硅片 金属
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
林健
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：单晶片 砷化镓 表面粗糙度 磷化铟 超薄
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
佟丽英
供职机构：中国电子科技集团公司
研究主题：单晶片 抛光片 电阻率 硅单晶 少子寿命
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
宋晶
供职机构：中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题：一致性 表面粗糙度 光散射 硅抛光片 IPA
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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