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陈亚楠
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:锗 抛光 清洗技术 硅抛光片 抛光垫
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
赵权
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:抛光片 锗 单晶片 表面粗糙度 清洗技术
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
张伟才
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:锗 抛光片 化学机械抛光 机械强度 IPA
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
刘春香
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:锗 单晶片 粗糙度 超薄 清洗技术
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
田原
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:锗 粗糙度 抛光片 化学机械抛光 硅
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
杨洪星
供职机构:中国电子科技集团公司
研究主题:锗 单晶片 抛光片 晶片 表面粗糙度
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
王斌
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:锗 P型 单晶片 多结太阳电池 清洗技术
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
付旸
供职机构:中国电子科技集团公司第四十六研究所
研究主题:硅单晶片 化学机械抛光 抛光效果 抛光垫 使用寿命
发表作品相关人物供职机构所获资助研究领域
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