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刘佳星

作品数：7 被引量：0H指数：0
供职机构：中国电子科技集团第十一研究所更多>>
相关领域：电子电信化学工程更多>>

合作作者

文献类型

  • 7篇中文专利

领域

  • 2篇电子电信
  • 1篇化学工程

主题

  • 5篇光刻
  • 4篇光刻胶
  • 3篇涂胶
  • 2篇钝化层
  • 2篇涂胶装置
  • 2篇显影液
  • 2篇小尺寸
  • 2篇芯片
  • 2篇硫化
  • 2篇硫化镉
  • 2篇均匀性
  • 2篇基片
  • 1篇底片
  • 1篇亚胺
  • 1篇探测器
  • 1篇套刻
  • 1篇碲锌镉
  • 1篇碲镉汞
  • 1篇碲镉汞探测器
  • 1篇酰亚胺

机构

  • 7篇中国电子科技...

作者

  • 7篇刘佳星
  • 4篇巩爽
  • 2篇郭喜
  • 2篇林立
  • 2篇李忠贺
  • 1篇刘铭
  • 1篇李海燕

年份

  • 1篇2024
  • 2篇2023
  • 1篇2022
  • 1篇2018
  • 1篇2017
  • 1篇2015
共 7 条 记 录，以下是 1-7
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排序方式：
小尺寸基片涂胶盘及小尺寸基片涂胶装置
本发明公开了一种小尺寸基片涂胶盘及小尺寸基片涂胶装置。小尺寸基片涂胶盘包括：本体部，本体部的上表面设有多个筋条，多个筋条沿本体部中心的周向方向间隔排布，相邻两个筋条构造形成一个沟槽，沟槽的一端朝向本体部的中心，沟槽的另一...
刘佳星巩爽王少刚张轶亢喆
一种胶边转移结构及制备方法
本申请公开了一种胶边转移结构及制备方法，用于消除旋涂光刻胶过程中碲镉汞基材边缘产生的光刻胶边对光刻的影响，所述胶边转移结构包括设置在碲镉汞基材边缘的基础结构，所述基础结构包括基于碲镉汞基材边缘设置的胶边引流区和胶边存储区...
谭启广陈书真刘佳星杨茂生
一种硫化镉芯片及硫化镉芯片表面钝化层的制作方法
本发明提供一种硫化镉芯片及其表面钝化层的制作方法，用以解决目前硫化镉芯片制作工艺较为复杂的问题。该方法区别于传统物理、化学、淀积钝化层制备工艺，首次应用光敏型聚酰亚胺胶，该方法包括：在硫化镉芯片表面涂覆一层光敏聚酰亚胺胶...
郭喜李忠贺林立刘佳星巩爽
一种硫化镉芯片及硫化镉芯片表面钝化层的制作方法
本发明提供一种硫化镉芯片及其表面钝化层的制作方法，用以解决目前硫化镉芯片制作工艺较为复杂的问题。该方法区别于传统物理、化学、淀积钝化层制备工艺，首次应用光敏型聚酰亚胺胶，该方法包括：在硫化镉芯片表面涂覆一层光敏聚酰亚胺胶...
郭喜李忠贺林立刘佳星巩爽
文献传递
一种光刻胶膜的制备方法
本发明公开了一种光刻胶膜的制备方法，该方法包括：在基片上进行一次涂胶，形成第一层光刻胶膜；对第一层光刻胶膜进行全曝光；在第一层光刻胶膜上进行二次涂胶，形成第二层光刻胶膜；根据光刻图形对第二层光刻胶膜进行部分曝光；对第一层...
李海燕曹海娜刘佳星
文献传递
小尺寸基片涂胶盘及小尺寸基片涂胶装置
本发明公开了一种小尺寸基片涂胶盘及小尺寸基片涂胶装置。小尺寸基片涂胶盘包括：本体部，本体部的上表面设有多个筋条，多个筋条沿本体部中心的周向方向间隔排布，相邻两个筋条构造形成一个沟槽，沟槽的一端朝向本体部的中心，沟槽的另一...
刘佳星巩爽王少刚张轶亢喆
一种具有可视化光刻版图的光刻板及对准方法
本发明提出了一种具有可视化光刻版图的光刻板及对准方法。该光刻板包括：可视化光刻版图包括用于支撑光刻板的支撑排区域，两支撑排区域相邻的区域内设置有可视化窗口；每个可视化窗口内设置有四个像元尺寸的透光区域；透光区域内开设有微...
王晓乾张轶刘佳星温涛刘铭
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